[实用新型]一种密封件水测带清洗检测机

权利要求书

1.一种密封件水测带清洗检测机，包括底座（1）和模具（7），其特征在于：所述底座（1）的上端安置有工作台（2），且工作台（2）的上端设置有主体（3），所述主体（3）的上端安置有仪表盘（4），且主体（3）的上端前端设置有下压气缸（5），所述下压气缸（5）的上端固定有紧固螺栓（6），所述模具（7）安置于主体（3）的下端前端，且模具（7）的内侧穿设有固定螺栓（8），所述主体（3）的下端后端设置有三通管（9），且三通管（9）的后端设置有推动气缸（10），所述工作台（2）上端前端开设有收集框（11），且收集框（11）的下端一侧连接有良品收集槽（12），所述良品收集槽（12）的底部开设有滤水孔（13），所述收集框（11）的下端另一侧连接有不良品收集槽（14），且收集框（11）的内侧设置有挡板（15），且挡板（15）通过铰链（16）与收集框（11）相连接，所述挡板（15）的外侧连接有气缸（17），所述底座（1）的下端放置有水桶（18）。

2.根据权利要求1所述的一种密封件水测带清洗检测机，其特征在于：所述模具（7）与主体（3）呈垂直状分布，且固定螺栓（8）贯穿于模具（7）内侧，并且模具（7）通过固定螺栓（8）与主体（3）之间构成活动结构。

3.根据权利要求1所述的一种密封件水测带清洗检测机，其特征在于：所述模具（7）等距分布在主体（3）下端前端，且模具（7）设置有四个。

4.根据权利要求1所述的一种密封件水测带清洗检测机，其特征在于：所述三通管（9）与模具（7）之间为活动连接，且三通管（9）与模具（7）呈垂直状分布。

5.根据权利要求1所述的一种密封件水测带清洗检测机，其特征在于：所述良品收集槽（12）与不良品收集槽（14）均呈倾斜状分布，且滤水孔（13）等距分布于良品收集槽（12）的底部。

6.根据权利要求1所述的一种密封件水测带清洗检测机，其特征在于：所述挡板（15）呈倾斜状分布于收集框（11）内侧，且挡板（15）通过铰链（16）和气缸（17）与收集框（11）之间构成活动结构。