[实用新型]玻片清洁装置和玻片加载系统

权利要求书

1.一种玻片清洁装置，其特征在于，包括玻片清洁组件，所述玻片清洁组件设置有至少两个出气口，且所有的所述出气口的出气范围之和能够覆盖整个玻片；所述出气口用于向玻片排出气体以清洁所述玻片。

2.根据权利要求1所述的玻片清洁装置，其特征在于，所述玻片清洁组件包括风道，所述出气口设置在所述风道上，所述风道设置有：与所述出气口连通的第一腔体、进气口、以及与所述进气口连通的第二腔体；

其中，所述第二腔体和所述第一腔体连通，且所述第二腔体的横截面小于所述第一腔体的横截面，所述第二腔体的横截面垂直于所述第二腔体内的气体流向，所述第一腔体的横截面垂直于所述第一腔体内的气体流向。

3.根据权利要求2所述的玻片清洁装置，其特征在于，所述第一腔体和所述第二腔体均为圆柱腔体且共轴线设置，所述第一腔体内的气体以及所述第二腔体内的气体均沿所述圆柱腔体的轴向流动。

4.根据权利要求2所述的玻片清洁装置，其特征在于，所述第一腔体至少为两个且分布在所述第二腔体的两侧，所述进气口位于所述第二腔体的中部。

5.根据权利要求1所述的玻片清洁装置，其特征在于，所述玻片清洁组件还包括设置在所述出气口处的喷嘴。

6.根据权利要求1所述的玻片清洁装置，其特征在于，所述出气口的出气方向和所述玻片进入玻片清洁装置的方向之间的夹角为钝角。

7.根据权利要求1所述的玻片清洁装置，其特征在于，还包括能够阻挡所述玻片在清洁过程中侧翻的阻挡件。

8.根据权利要求7所述的玻片清洁装置，其特征在于，所述阻挡件包括：设置在所述玻片清洁组件上的阻挡座，设置在所述阻挡座上且能够与所述玻片接触并滚动的阻挡滚珠，以及两端分别与所述阻挡座和所述阻挡滚珠连接的弹性件；

其中，所述阻挡滚珠沿竖直方向可滑动地设置在所述阻挡座上，且所述弹性件能够沿竖直方向发生形变。

9.根据权利要求8所述的玻片清洁装置，其特征在于，所述阻挡座设置有容纳所述阻挡滚珠的容腔，所述容腔的内壁设置有可旋转的配合滚珠，所述阻挡滚珠通过所述配合滚珠可滚动地设置在所述阻挡座上。

10.根据权利要求1所述的玻片清洁装置，其特征在于，所述玻片清洁组件的一端可拆卸地设置在用于支撑玻片的支撑座上，所述玻片清洁组件的另一端可转动地设置在所述支撑座上。

11.根据权利要求1-10中任一项所述的玻片清洁装置，其特征在于，还包括：用于检测所述玻片的打印区是否位于正确位置的玻片检测组件。

12.根据权利要求11所述的玻片清洁装置，其特征在于，所述玻片检测组件包括两个用于设置在所述玻片两端的光电检测器；

所述光电检测器包括对射光电发射端、设置有检测孔的检测基座、以及设置在所述检测基座上的对射光电接收端；

其中，所述对射光电接收端位于所述检测孔的底侧，所述检测孔用于设置在所述玻片的底侧，所述对射光电发射端用于设置在所述玻片的顶侧；

所述检测孔所在的板相对于竖直方向倾斜设置，和/或所述检测孔和所述对射光电接收端在水平面内的投影错开。

13.一种玻片加载系统，包括用于将玻片盒内的玻片切出的切片装置，以及用于清洁被切出的所述玻片的清洁装置，其特征在于，所述清洁装置为如权利要求1-12中任一项所述的玻片清洁装置。