[实用新型]一种保护膜结构

权利要求书

1.一种保护膜结构，其特征在于，该保护膜结构包括：转贴层、保护层和离型层；所述转贴层及保护层的一侧均有胶黏面；

所述转贴层的胶黏面侧贴付于保护层的非胶黏面侧；所述保护层的胶黏面侧贴付于离型层上；

所述转贴层与保护层之间的揭开力为Fa，所述保护层与离型层之间的揭开力为Fb，Fa≥3Fb；

所述保护层与被贴物之间的揭开力为Fc，Fc≥3Fa。

2.根据权利要求1所述的一种保护膜结构，其特征在于，所述保护层的面积小于等于转贴层的面积；所述保护层的面积小于等于离型层的面积。

3.根据权利要求1所述的一种保护膜结构，其特征在于，所述保护层的面积小于转贴层的面积；所述保护层的面积小于离型层的面积。

4.根据权利要求1所述的一种保护膜结构，其特征在于，所述保护层的面积等于离型层的面积。

5.根据权利要求1所述的一种保护膜结构，其特征在于，所述转贴层为单层保护膜或至少两层保护膜组成。

6.根据权利要求1所述的一种保护膜结构，其特征在于，所述保护层为单层保护膜或至少两层保护膜组成。

7.根据权利要求1所述的一种保护膜结构，其特征在于，所述转贴层与保护层的基材为PET膜、PP膜、PE膜、PI膜、PC膜中的任意一种。

8.根据权利要求1所述的一种保护膜结构，其特征在于，所述胶黏面为亚克力胶、硅胶、橡胶、PU胶或静电吸附剂中的任意一种。

9.根据权利要求1所述的一种保护膜结构，其特征在于，所述离型层为离型膜或离型纸。