[实用新型]一种可调节内部支撑架的真空炉

权利要求书

1.一种可调节内部支撑架的真空炉，包括炉盖(1)、主体(5)、底座(7)、反应箱(8)和支架(9)，其特征在于：所述主体(5)的底端固定有底座(7)，所述主体(5)顶部的一端固定有抽气孔(4)，所述主体(5)的一侧铰接有炉盖(1)，所述炉盖(1)的一端设置有密封结构(2)，所述密封结构(2)包括密封圈(201)、卡槽(202)、卡块(203)、第一磁铁(204)和第二磁铁(205)，所述第二磁铁(205)设置于主体(5)内部的一端，所述第二磁铁(205)的内部设置有卡槽(202)，所述卡槽(202)的内部设置有卡块(203)，且卡块(203)一端与炉盖(1)的一端固定，所述卡块(203)的外侧壁设置有密封圈(201)，所述密封圈(201)内部的一端固定有第一磁铁(204)，所述主体(5)内部的底端固定有反应箱(8)，所述反应箱(8)内部的底端固定有支架(9)，所述支架(9)的顶端设置有调节结构(6)，所述炉盖(1)的内侧壁设置有隔热结构(3)。

2.根据权利要求1所述的一种可调节内部支撑架的真空炉，其特征在于：所述卡槽(202)的内径大于卡块(203)的外径，所述卡槽(202)和卡块(203)之间构成卡合结构。

3.根据权利要求1所述的一种可调节内部支撑架的真空炉，其特征在于：所述隔热结构(3)包括夹持块(301)、空腔(302)和隔热材料(303)，所述夹持块(301)均固定于主体(5)内侧壁的顶端和底端，所述夹持块(301)的一端固定有隔热材料(303)，所述炉盖(1)的内侧壁和隔热材料(303)的外侧壁之间设置有空腔(302)。

4.根据权利要求3所述的一种可调节内部支撑架的真空炉，其特征在于：所述夹持块(301)设置有两组，且两组夹持块(301)关于主体(5)的中心线呈对称分布。

5.根据权利要求1所述的一种可调节内部支撑架的真空炉，其特征在于：所述调节结构(6)包括滑槽(601)、固定块(602)、滑块(603)、弹簧(604)和安装板(605)，所述滑槽(601)设置于支架(9)内部的顶端，所述滑槽(601)内部的两侧均设置有滑块(603)，所述滑块(603)的顶端均固定有固定块(602)，且固定块(602)的顶端均延伸至支架(9)顶部，所述固定块(602)的一侧均固定有弹簧(604)，所述弹簧(604)的一侧均固定有安装板(605)，且安装板(605)的一侧均与反应箱(8)内部的一侧固定。

6.根据权利要求5所述的一种可调节内部支撑架的真空炉，其特征在于：所述滑块(603)设置有两组，所述滑块(603)通过弹簧(604)与安装板(605)之间构成伸缩结构。