[实用新型]偏光片内污缺陷成像机构

说明书

本实用新型涉及一种偏光片内污缺陷成像机构，包括设置在上吸风传输平台下方的相机以及光源；所述的相机以及光源通过支架固定，所述光源发出的光线照射于偏光片表面并反射，所述的相机对偏光片进行成像，成像点位于光源暗场区域；所述相机的镜头的中心轴线与垂直于偏光片的方向之间具有夹角α，所述的光源发出的光线与垂直于偏光片的方向之间具有夹角β。本实用新型通过高亮线光的反射，相机在一定角度下将增亮片内污缺陷清晰成像，便于检测识别，可以有效检出增亮片内污缺陷，提升产品检出效果，避免残次品流入市场；适用于增亮偏光片检测，可解决机器在线检测无法有效识别内污缺陷的难点，增强检出效率，增加产品流出良率。

技术领域

本实用新型涉及一种成像机构，尤其是一种偏光片内污缺陷成像机构。

背景技术

手机行业的快速发展，避免不了任何微小缺陷造成产品不良。从而出现了大量操作工的人工检测产品，随着劳动成本的增加以及新技术的发展，使用机器检测代替人工已是趋势。但增亮型偏光片内污缺陷较小，人工检测容易漏检，会有残次品流出，导致品质降低。

而现有技术的可成像内污缺陷的工位会有大量干扰，不能有效检出缺陷。产生原因是因工艺问题造成的内污缺陷一般位于增亮片保护膜和TAC膜之间，且很小，很难形成没有干扰的成像效果。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是：提供一种偏光片内污缺陷成像机构，解决增亮型偏光片在亮面外观缺陷检测中保护膜和TAC膜之间异物检测的问题。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种偏光片内污缺陷成像机构，包括设置在上吸风传输平台下方的相机以及光源；所述的相机以及光源通过支架固定，所述光源发出的光线照射于偏光片表面并反射，所述的相机对偏光片进行成像，成像点位于光源暗场区域；所述相机的镜头的中心轴线与垂直于偏光片的方向之间具有夹角α，所述的光源发出的光线与垂直于偏光片的方向之间具有夹角β。

进一步的说，本实用新型所述的夹角α的角度范围为10～30°；所述的夹角β的角度范围为0～5°。

进一步的说，本实用新型所述的光源为高亮线性条形光源。

再进一步的说，本实用新型所述的光源与偏光片的垂直距离h1为200～300mm，所述相机与偏光片的垂直距离h2为350～420mm。

进一步的说，本实用新型所述的上吸风传输平台具有吸风皮带，所述的偏光片吸附于吸风皮带上进行传输。

本实用新型的有益效果是，解决了背景技术中存在的缺陷，

1、通过高亮线光的反射，相机在一定角度下将增亮片内污缺陷清晰成像，便于检测识别；

2、从亮面检测偏光片，并通过调整相机角度和光源，利用光源反射暗场成像，可以将内污缺陷清晰成像，且无其他干扰，便于检出；

3、实时在线外观检测时，可以有效检出增亮片内污缺陷，提升产品检出效果，避免残次品流入市场；

4、适用于增亮偏光片检测，可解决机器在线检测无法有效识别内污缺陷的难点，增强检出效率，增加产品流出良率。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是本实用新型成像光路示意图；

图中：1、上吸风传输平台；2、相机；3、光源；4、支架；5、偏光片；6、吸风皮带。

具体实施方式

现在结合附图和优选实施例对本实用新型作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成。