[实用新型]一种硅胶生产用研磨装置

权利要求书

1.一种硅胶生产用研磨装置，其特征在于，包括平台(1)、支架(2)、清洗装置(3)、研磨装置(6)，所述支架(2)和研磨装置(6)均设置平台(1)上，所述研磨装置(6)设置在支架(2)的下方，所述清洗装置(3)与支架(2)内侧连接，并且位于研磨装置(6)的上方，所述支架(2)内侧的清洗装置(3)与研磨装置(6)垂直设置。

2.根据权利要求1所述的一种硅胶生产用研磨装置，其特征在于，所述研磨装置(6)包括滚筒(61)、挡料板(62)、传动器(63)、调距架(64)、限位架(65)、控制器(66)、挡板(67)、出料板(68)以及功能箱(69)，所述限位架(65)设有两个，两个所述限位架(65)分别对称设置在功能箱(69)的两侧，所述传动器(63)设置在左边的限位架(65)的一侧，所述滚筒(61)设有三个，并且三个所述滚筒(61)都平行排列设置在功能箱(69)上，三个所述滚筒(61)的两端设有轴承，所述功能箱(69)顶部可用于三个所述滚筒(61)研磨工作，所述功能箱(69)内部设有三角皮带，所述控制器(66)设置在左侧限位架(65)上，所述挡板(67)设有两个，两个所述挡板(67)分别对称设置在功能箱(69)上，并且对称设置在三个所述滚筒(61)的两侧，所述挡料板(62)设有两个，两个所述挡料板(62)分别对称设置在三个所述滚筒(61)的后两个之间，所述调距架(64)设有四个，四个所述调距架(64)两两对称设置在两个所述限位架(65)上，所述出料板(68)向下倾斜设置在功能箱(69)顶端一侧，所述出料板(68)上设置有对称的挡片(681)。

3.根据权利要求1所述的一种硅胶生产用研磨装置，其特征在于，所述清洗装置(3)包括气缸滑轨(31)、滑块(32)、洒水器(33)、连接储水器(34)、连接管(35)、挡水板(36)、第一丝杆滑台(37)、第二丝杆滑台(38)、第三丝杆滑台(39)、引导板(4)、清洗块(5)，所述气缸滑轨(31)设置在支架(2) 上，并且设置在滚筒(61)的上方，所述滑块(32)设置在气缸滑轨(31)上，所述连接储水器(34)设置在滑块(32)上，所述连接管(35)设置在连接储水器(34)的一侧，所述连接管(35)具有吸水功能，所述洒水器(33)设置连接储水器(34)的下方，所述挡水板(36)对称设置在连接储水器(34)上，所述第一丝杆滑台(37)横向设置支架(2)上，所述第二丝杆滑台(38)垂直设置在第一丝杆滑台(37)上，所述第三丝杆滑台(39)横向设置在第二丝杆滑台(38)上，并且不与第一丝杆滑台(37)在一个平面上，所述引导板(4)垂直设置在第三丝杆滑台(39)上所述清洗块(5)与引导板(4)连接。