[实用新型]一种用于CVD涂层设备用的反应腔体有效
| 申请号: | 202022084873.9 | 申请日: | 2020-09-21 |
| 公开(公告)号: | CN213232484U | 公开(公告)日: | 2021-05-18 |
| 发明(设计)人: | 王彤 | 申请(专利权)人: | 常州艾恩希纳米镀膜科技有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
| 代理公司: | 上海思牛达专利代理事务所(特殊普通合伙) 31355 | 代理人: | 雍常明 |
| 地址: | 213100 江苏省常州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 用于 cvd 涂层 备用 反应 | ||
本实用新型涉及金属切削刀具和工模具涂层技术领域,且公开了该用于CVD涂层设备用的反应腔体,通过挂钩,方便车间实用现有的行车系统或者专用的起吊系统吊起和放置反应室腔体,更加容易移动反应室腔体,由于本装置带有散热片,降低了反应室腔体底部密封法兰环的温度,缓解了密封法兰环下部的橡胶密封圈的使用温度,正对挂钩方向,带有挂钩指示孔位,在安装反应腔体时可以准确定位反应腔体的挂钩位置,由于本装置带有带弹簧支脚的保温环,可以在加热装置给反应室腔体加热时,避免热量流失,减少能量损耗,降低用电成本,由于本实用新型装置带有清洁固定槽,在挂钩吊起反应腔体清洁时,通过夹块夹住清洁固定槽,使得反应腔体保持固定位置不动。
技术领域
本实用新型涉及金属切削刀具和工模具涂层技术领域,具体为一种用于CVD涂层设备用的反应腔体。
背景技术
CVD是在其它材料(基材)的金属加工用工件例如模具、切削工具等的表面上成膜的方法,尤其是薄膜形成方法,化学气相沉积的特点是反应气体所含化合物的化学反应的进行,所期望的化学反应主要产物沉积在基材表面上并在那里形成涂层或者说覆膜,可能的反应副产物以气体形态出现并且必须从气体混合物中被除去以保证层膜性能,这通过排气管路来实现。
但是现有常见的技术也是有一些缺陷的,不带挂钩,不带散热片,不带带弹簧支脚的保温环,不带清洁固定凹槽,不带挂钩方向指示标识等这些缺陷。
实用新型内容
技术方案
为实现上述移动反应室腔体,缓解了橡胶密封圈的使用温度与降低用电成本目的,本实用新型提供如下技术方案:一种用于CVD涂层设备用的反应腔体,包括腔体,所述腔体的顶部焊接安装有封头,所述封头的顶部固定安装有挂钩,所述腔体的底端外侧分别固定安装有带弹簧支脚的保温环与散热片,所述腔体的底部固定安装有密封法兰环。
优选的,所述腔体的形状为圆筒形。
优选的,所述密封法兰环内包含有清洁固定槽、挂钩指示孔位与密封法兰面。
优选的,所述带弹簧支脚的保温环位于散热片的顶部。
有益效果
与现有技术相比,本实用新型提供了一种用于CVD涂层设备用的反应腔体,具备以下有益效果:
该用于CVD涂层设备用的反应腔体,通过本装置带有挂钩,方便车间实用现有的行车系统或者专用的起吊系统吊起和放置反应室腔体,更加容易移动反应室腔体,同时,由于本装置带有散热片,降低了反应室腔体底部密封法兰环的温度,缓解了密封法兰环下部的橡胶密封圈的使用温度,正对挂钩方向,带有挂钩指示孔位,在安装反应腔体时可以准确定位反应腔体的挂钩位置,由于本装置带有带弹簧支脚的保温环,可以在加热装置给反应室腔体加热时,避免热量流失,减少能量损耗,降低用电成本,由于本实用新型装置带有清洁固定槽,在挂钩吊起反应腔体清洁时,通过夹块夹住清洁固定槽,使得反应腔体保持固定位置不动。
附图说明
图1为本实用新型整体结构示意图;
图2为本实用新型图1中A处放大图。
图中:1-腔体、2-封头、3-挂钩、4-带弹簧支脚的保温环、5-散热片、6-清洁固定槽、7-密封法兰环、8-挂钩指示孔位、9-密封法兰面。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





