[实用新型]一种化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头

说明书

本实用新型涉及化学机械抛光技术领域，且公开了一种化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头，包括抛光机输出主轴，抛光机输出主轴的下端连接有化学机械抛光承载头；化学机械抛光承载头的侧壁上对称开设有多个定位螺栓连接孔，化学机械抛光承载头上安装有便捷化学机械抛光保持环；便捷化学机械抛光保持环的两侧均连接有便捷拆装连接把手；便捷拆装连接把手的外表面设置有定位螺栓。该化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头，通过化学机械抛光承载头和多个定位螺栓连接孔配合使用，使保持环与晶圆的距离能够达到最佳位置，防止晶圆出现过抛现象，能够有效的避免金属离子污染和保持环与晶圆发生机械碰撞，提升了设备的实用效果和安全性能。

技术领域

本实用新型涉及化学机械抛光技术领域，具体为一种化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头。

背景技术

化学机械抛光是一种全局平整化的超精密表面加工技术。这种抛光方法通常将基板吸合于承载头的下部,基板具有沉积层的底面抵接于旋转的拋光垫,承载头在驱动部件的带动下与抛光垫同向旋转并给予基板向下的载荷；同时，抛光液供给于抛光垫与基板之间,在化学和机械的共同作用下实现基板的材料去除。化学机械抛光过程中容易发生基板表面被金属污染物划伤和金属污染物超标的问题,这都是在芯片制造领域难以接受的。一般而言,一旦发现基板表面被金属污染物划伤或金属污染物超标，则可能需要更换全部相关耗材，从而大幅增加生产成本、降低生产效率。

中国已授权实用新型公开(公告)号：CN211163459U中公开的一种化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头，该化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头通过在保持环金属部的顶面、内侧面和外侧面设置有耐涂层，其可有效保护保持环的金属部，防止金属部与其他部件发生磕碰而产生金属离子污染，避免金属离子污染对化学机械抛光生产的影响；但是在实际使用过程中，通过上述对比专利的结构设计，由于保持环和承载头之间无法进行简单的可拆卸连接，导致其具有适用性不高的缺点，无法根据所需要化学机械抛光加工的加工件实际情况选择最为合适连接距离，而且当正常生产过程中发生意外情况，导致保持环无法继续进行正常的加工保护工作时，并没有备用保持环可以进行快速的更换工作，大大降低的设备的生产效率，故而提出以上一种化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头以解决上述问题。

实用新型内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头，解决了上述背景技术中提出的现有的无法调节承载头和保持环之间距离和无法进行快速更换保持环操作的问题。

(二)技术方案

为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：

一种化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头，包括抛光机输出主轴，所述抛光机输出主轴的下端连接有化学机械抛光承载头；所述化学机械抛光承载头的侧壁上对称开设有多个定位螺栓连接孔，所述化学机械抛光承载头上安装有便捷化学机械抛光保持环；所述便捷化学机械抛光保持环的两侧均连接有便捷拆装连接把手；两个所述便捷拆装连接把手一侧外表面的中部位置均设置有定位螺栓。

进一步的，所述化学机械抛光承载头的上端固定连接有可控制化学机械抛光承载头转动速度的抛光机输出主轴，所述抛光机输出主轴与化学机械抛光承载头相适配。

进一步的，所述便捷化学机械抛光保持环共有两个，两个所述便捷化学机械抛光保持环通过便捷拆装连接把手相连接，两个所述便捷化学机械抛光保持环对称分布在两个便捷拆装连接把手的两端。

进一步的，两个所述便捷化学机械抛光保持环均包括有防磨损保护环套和保持环钣金，所述防磨损保护环套均与化学机械抛光承载头相适配，所述防磨损保护环套均连接有相适配的保持环钣金，所述便捷化学机械抛光保持环通过防磨损保护环套与化学机械抛光承载头活动连接。

进一步的，所述防磨损保护环套均为环形结构，所述防磨损保护环套均由聚酰亚胺材料构成，所述防磨损保护环套均通过双层复合的形式注塑成型。