[实用新型]一种硅片链式扩散氧化两用设备

权利要求书

1.一种硅片链式扩散氧化两用设备，其特征在于，包括形成窑炉通道的窑炉主体(2)，窑炉通道内并排设置有多个横跨窑炉通道宽度方向的陶瓷棍棒(3)，窑炉主体(2)入口端的陶瓷棍棒(3)上方设置有磷酸喷涂设备(1)，从入口端到出口端依次将窑炉主体(2)设置为可变功能区(4)、高温扩散氧化区(5)和水循环冷却区(6)，在可变功能区(4)、高温扩散氧化区(5)、水循环冷却区(6)分别连通气体输送设备(8)，水循环冷却区(6)还连通水输送设备(9)。

2.根据权利要求1所述的一种硅片链式扩散氧化两用设备，其特征在于，窑炉主体(2)顶部连通排气风机(7)。

3.根据权利要求2所述的一种硅片链式扩散氧化两用设备，其特征在于，排气风机(7)连通在窑炉主体(2)的可变功能区(4)和高温扩散氧化区(5)顶部。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的一种硅片链式扩散氧化两用设备，其特征在于，所述两用设备总长8.1m，炉内工作宽度为2170mm。