[实用新型]一种基因测序基片的制备设备

说明书

本实用新型提供一种基因测序基片的制备设备，可以消除在玻璃上的纳米压印胶的荧光性，从而使得紫外纳米压印胶制备的微坑结构可以应用于基因测序芯片。设备包括基片、平台、光源、菲涅尔透镜；其中所述的基片为基因测序芯片的组成部分；所述基片为软压印的方法制备微结构基片；所述基片的表面有紫外纳米压印胶；所述光源为LED光源；LED光源的光经过菲涅尔透镜照射到基片上面；所述基片放置在平台上面。利用紫外光源长时间的照射玻璃上的纳米压印胶的薄层，可以消除该薄层纳米压印胶的荧光。设备方法简单，并且不会对于纳米压印胶造成损伤。

技术领域

本实用新型涉及一种基因测序基片的制备设备，属于基因测序领域。

背景技术

高通量测序仪是近几年高速发展的技术。高通量测序，相较于传统桑格测序，最大的优势是可以同时读出海量的序列信息。虽然准确度不如传统测序方法，但由于海量数据分析，便可得出超出序列本身的信息，如基因表达量、拷贝数变异。当今主流测序仪均使用SBS(sequencing by synthesis边合成边测序)方法，如solexa/illumina、454、iontorrent等。这些测序仪的结构相似，都包括流体系统，光学系统，和芯片系统。测序反应在芯片内发生。测序过程也很相似，都包括：将反应液通入芯片，发生SBS反应，采集信号，冲洗，进行下一轮。一般的测序芯片都包括微反应池，主要是石英等物质为基底。纳米压印技术是通过光刻胶辅助，将模板上的微纳结构转移到待加工材料上的技术。这种技术有望替代现有的光刻技术。纳米压印技术成本低，精度高，重复性好。本实用新型提供一种在玻璃上利用纳米压印制备有机物微坑的方法，这种微坑用于基因测序的时候，通过一定的处理，可以消除原始的荧光对于测序反应的影响。

实用新型内容

一种去除基因测序基片荧光性的设备，其特征在于，包括基片、平台、光源、菲涅尔透镜；其中所述的基片为基因测序芯片的组成部分；所述基片为软压印的方法制备微结构基片；所述基片的表面有紫外纳米压印胶；所述光源为LED光源；LED光源的光经过菲涅尔透镜照射到基片上面；所述基片放置在平台上面。

根据优选的实施方式，所述平台是旋转的。

根据优选的实施方式，所述光源的波长为300-600nm。

根据优选的实施方式，所述纳米压印胶的厚度为0.5-5微米。

本设备的原理是利用大功率的LED光源均匀照射片子表面，获得低荧光的基片。一般的纳米压印方法中，UV胶或者热压胶是主要的纳米压印胶。UV胶或者热压胶一般具备在特定波段很强烈的荧光。这对于测序反应来说是不能接受的。因此需要除掉基片表面的荧光。本实用新型方法简单，不会对于纳米压印胶造成损伤，并且可以将纳米压印胶的荧光性去除90％以上，可以满足基因测序的需求。

本实用新型中所涉及的词均为本领域的通用说法，为了进一步的表述清楚，下面对于本实用新型涉及的用词做进一步的解释。

本实用新型所述的基片为本领域的常见用法。指的是生物化学实验中，直接用于实验的玻璃片、硅片、石英片等透明或者不透明的平整基底，或者封装以后形成密封芯片的平整基底。基底上可以选择性的部分区域通过微加工或者其它手段形成图案作为功能区域。

本实用新型所述的低荧光或者无荧光属于相对的概念。但是本领域技术人员可以明显知道的是，常见的紫外胶等物质有明显的荧光性，例如US8等等，在使用紫外光源照射的时候，会发出明显的光，并且会导致部分生物化学实验不能使用。低荧光也属于相对的概念。即使是纯度十分高(99.99％以上)的石英也会被灵敏的荧光显微镜观察到，但是石英片并不会因为荧光影响某些生物化学实验的观测。除特殊说明外，本实用新型中所涉及的词均为本领域的通用说法。

附图说明

图1.装置示意图。

具体实施方式