[实用新型]一种新型锂电铜箔表面处理装置

说明书

本实用新型提供一种新型锂电铜箔表面处理装置，包括设置于底座内的防氧化液槽，所述底座上方设置有固定架，所述防氧化液槽和固定架之间设置有铜箔处理机构，所述铜箔处理机构包括设置于底座内壁上的浸液机构、设置于所述浸液机构一侧的第二转杆、套接在所述第二转杆上且与浸液机构对应的挤液辊、设置于所述浸液机构和所述挤液辊之间且位置固定架上的风刀。本实用新型通过铜箔处理机构一方面能够增加铜箔与防氧化液的接触时间，提高了铜箔的防氧化效果，另一方面能够对铜箔上多余的液体进行清除，保证了铜箔的风干效果，从而有效的提高了对铜箔处理的工作效率，降低了对铜箔处理的时间，增加了铜箔的产量。

技术领域

本实用新型涉及铜箔生产技术领域，尤其涉及一种新型锂电铜箔表面处理装置。

背景技术

电解铜箔是覆铜板(CCL)及印制电路板(PCB)制造的基础材料之一，广泛使用于电子产品。随着电子产品轻、薄、短、小等特点的发展趋势，超薄电解铜箔消费市场的需求日益扩增，国内厚度18μm及以下电解铜箔的产能逐年扩大。

目前，铜箔在生产过程中需要对其进行防氧化处理，但是，现有的铜箔表面处理装置对铜箔的处理效果较差，因此，提出一种新型锂电铜箔表面处理装置来解决问题。

实用新型内容

本实用新型的目的是在于提供一种新型锂电铜箔表面处理装置，旨在解决背景技术提出的问题。

为了实现上述目的，本实用新型的一种新型锂电铜箔表面处理装置，包括设置于底座内的防氧化液槽，所述底座上方设置有固定架，所述防氧化液槽和固定架之间设置有铜箔处理机构，所述铜箔处理机构包括设置于底座内壁上的浸液机构、设置于所述浸液机构一侧的第二转杆、套接在所述第二转杆上且与浸液机构对应的挤液辊、设置于所述浸液机构和所述挤液辊之间且位于固定架上的风刀；

所述浸液机构包括设置于所述底座内壁的两个第一转杆、套接于所述第一转杆上且与防氧化液槽内液体接触的液下辊，所述挤液辊与其中一个液下辊连接。

优选地，所述底座的一端开设有安装槽，所述安装槽的内部设置有与第二转杆连接的调节机构，所述调节机构包括设置于所述第二转杆上且滑动在安装槽内的滑动块、螺纹连接在所述滑动块上的螺杆、设置于所述螺杆上且与底座连接的固定件、设置于所述螺杆一端的把手。

优选地，所述铜箔依次绕过两个液下辊与挤液辊接触并穿过风刀。

优选地，所述固定架包括设置于底座上方的固定板、设置于所述固定板和底座之间的多个透明罩和多个支撑杆，所述多个透明罩和所述多个支撑杆之间交叉排列。

优选地，所述其中一个第一转杆的左端连接位于底座外侧的电机，所述两个第一转杆的右端通过同步机构连接，所述同步机构包括设置于所述两个第一转杆上的齿轮、套接在所述两个齿轮上用于转动的传动带。

优选地，所述把手的外侧设置有用于防止打滑的防滑凸起。

本实用新型的有益效果：

1、本实用新型，通过铜箔处理机构一方面能够增加铜箔与防氧化液的接触时间，提高了铜箔的防氧化效果，另一方面能够对铜箔上多余的液体进行清除，保证了铜箔的风干效果，从而有效的提高了对铜箔处理的工作效率，降低了对铜箔处理的时间，增加了铜箔的产量。

2、本实用新型，通过调节机构能够调整液下辊和挤液辊之间的距离，方便对不同厚度的铜箔进行处理，同步机构能够保证两个液下辊之间同步匀速转动。

附图说明

图1为本实用新型的结构侧视剖面示意图；

图2为本实用新型的结构俯视剖面示意图；

图3为本实用新型传动带的结构侧视示意图；

图4为本实用新型底座的结构局部示意图。