[实用新型]一种PVD载板有效
| 申请号: | 202021986306.6 | 申请日: | 2020-09-11 |
| 公开(公告)号: | CN213037838U | 公开(公告)日: | 2021-04-23 |
| 发明(设计)人: | 张红星;张小健;樊天柱 | 申请(专利权)人: | 昆山市正行电子科技有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 215300 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 pvd 载板 | ||
本实用新型公开了一种PVD载板,包括底板和铰链,所述底板的正表面开设有承载槽,所述底板的正表面且位于承载槽的内腔开设有透气孔,所述底板正表面的底部开设有放置槽,所述底板正表面的两侧均开设有夹持槽,所述夹持槽内腔的两侧均固定连接有弹簧,所述弹簧远离夹持槽的一侧固定连接有连接板,所述连接板远离弹簧的一侧固定连接有防滑板。本实用新型通过设置底板、合板、透气孔、承载槽、放置槽、夹持槽、铰链、夹板、三角垫、方形通槽、弹簧、连接板、防滑板和伸缩杆配合使用,解决了现有的PVD载板不具有稳定夹持的功能,易导致硅片随意移动,无法满足使用者的需求,降低了PVD载板实用性的问题。
技术领域
本实用新型涉及PVD技术领域,具体为一种PVD载板。
背景技术
PVD即为物理气相沉积,物理气相沉积技术表示在真空条件下,采用物理方法,将材料源表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术,物理气相沉积的主要方法有,真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜,及分子束外延等。
在溅射镀膜的过程中,常会用到PVD载板来对需制备薄膜的硅片进行放置,现有的PVD载板不具有稳定夹持的功能,易导致硅片随意移动,无法满足使用者的需求,降低了PVD载板的实用性。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种PVD载板,具备稳定夹持的优点,解决了现有的PVD载板不具有稳定夹持的功能,易导致硅片随意移动,无法满足使用者的需求,降低了PVD载板实用性的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种PVD载板,包括底板和铰链,所述底板的正表面开设有承载槽,所述底板的正表面且位于承载槽的内腔开设有透气孔,所述底板正表面的底部开设有放置槽,所述底板正表面的两侧均开设有夹持槽,所述夹持槽内腔的两侧均固定连接有弹簧,所述弹簧远离夹持槽的一侧固定连接有连接板,所述连接板远离弹簧的一侧固定连接有防滑板,两个防滑板相对一侧的顶部与底部均固定连接有伸缩杆,所述底板的顶部通过铰链活动连接有合板,所述合板的正表面开设有与承载槽配合使用的方形通槽,所述方形通槽内腔的四角均固定连接有三角垫,所述合板正表面的两侧均固定连接有与夹持槽配合使用的夹板。
优选的,所述承载槽内腔的正表面固定连接有防护垫,防护垫的表面开设有与透气孔配合使用的通孔。
优选的,所述合板顶部的中心处固定连接有拨片,所述承载槽的数量为若干个。
优选的,所述放置槽内腔的正表面固定连接有第一磁铁,所述合板正表面的顶部固定连接有与第一磁铁配合使用的第二磁铁。
优选的,所述方形通槽的规格等于承载槽的规格,所述弹簧的数量为若干个。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果如下:
1、本实用新型通过设置底板、合板、透气孔、承载槽、放置槽、夹持槽、铰链、夹板、三角垫、方形通槽、弹簧、连接板、防滑板和伸缩杆配合使用,解决了现有的PVD载板不具有稳定夹持的功能,易导致硅片随意移动,无法满足使用者的需求,降低了PVD载板实用性的问题。
2、本实用新型通过设置三角垫,能够对硅片起到限位和防护的作用,通过设置拨片,能够便于使用者拨动合板,通过设置防护垫,能给对硅片的底部起到防护的作用,通过设置伸缩杆,能够防止连接板随着弹簧随意移动,通过设置防滑板,能够增大与夹板之间的摩擦力。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图;
图2为本实用新型夹持槽结构主视示意图;
图3为本实用新型连接板结构仰视剖视示意图;
图4为本实用新型放置槽结构主视示意图。
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