[实用新型]多腔体超低温磁控溅射镀膜机

说明书

本实用新型公开了多腔体超低温磁控溅射镀膜机，包括至少一个工艺室，所述工艺室内设有冷却辊和溅射腔室，溅射腔室内设有阴极靶材，所述溅射腔室的数量为四个，所述冷却辊的直径大于或等于65cm，所述冷却辊的温度低于或等于‑15℃。本多腔体超低温磁控溅射镀膜机中，冷却辊直径大且温度低，大幅度提高了对来料薄膜的冷却能力，使得工艺室内能够设置更多数量的溅射腔室及阴极靶材，从而提高生产效率。

技术领域

本实用新型涉及磁控溅射镀膜设备技术领域，尤其涉及多腔体超低温磁控溅射镀膜机。

背景技术

磁控溅射镀膜机包括依次连通的放卷室、前处理室、工艺室和收卷室，工艺室内设有冷却辊和溅射腔室，溅射腔室内设有阴极靶材。现有的磁控溅射镀膜机中由于冷却辊的冷却效果不甚理想，因此，溅射腔室一般只能设置两个，也就是说，现有的磁控溅射镀膜机单次只能镀两种靶材，当需要镀多种靶材时，薄膜需要重复多次经过磁控溅射镀膜机，严重影响生产效率。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种生产效率高的多腔体超低温磁控溅射镀膜机。

为了解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案为：多腔体超低温磁控溅射镀膜机，包括至少一个工艺室，所述工艺室内设有冷却辊和溅射腔室，溅射腔室内设有阴极靶材，所述溅射腔室的数量为四个，所述冷却辊的直径大于或等于65cm，所述冷却辊的温度低于或等于-15℃。

进一步的，所述冷却辊内设有第一冷却道，所述第一冷却道内设有氟利昂。

进一步的，所述冷却辊的材质为不锈钢。

进一步的，所述工艺室的数量为两个。

进一步的，还包括缓存室，所述缓存室位于两个所述工艺室之间且分别与两个所述工艺室连通。

进一步的，相邻的两个所述溅射腔室之间通过挡板隔离，所述挡板内设有第二冷却道，所述第二冷却道内设有冷却介质。

进一步的，所述工艺室内还设有换靶机构，所述换靶机构包括导向组件、支撑组件和驱动组件，导向组件包括固定座，所述固定座上设有四组导向槽，四组所述导向槽分别对应于四个所述溅射腔室设置，每组所述导向槽的长轴的延长线均与所述冷却辊的中心轴相交；所述支撑组件包括固定体、两个第一伸缩杆和两个第二伸缩杆，所述第一伸缩杆的一端可伸缩设于所述固定体内，所述第二伸缩杆的一端可伸缩设于所述第一伸缩杆内，所述第一伸缩杆和第二伸缩杆上分别设有与所述导向槽相配合的导向块，所述第一伸缩杆和第二伸缩杆上分别连接有安装座，所述阴极靶材安装在所述安装座上；所述驱动组件包括直线驱动件，所述直线驱动件设于所述固定座上并连接所述固定体。

进一步的，所述溅射腔室内设有一组两面开口的阴极小室，所述阴极靶材伸入所述阴极小室内。

进一步的，所述阴极小室内还设有抽真空机构，所述抽真空机构与外部的抽真空机相连。

进一步的，所述导向块上设有与所述导向槽的一侧壁抵触的滚动轴承。

本实用新型的有益效果在于：本多腔体超低温磁控溅射镀膜机中，冷却辊直径大且温度低，大幅度提高了对来料薄膜的冷却能力，使得工艺室内能够设置更多数量的溅射腔室及阴极靶材，从而提高生产效率。

附图说明

图1为本实用新型实施例一的多腔体超低温磁控溅射镀膜机的结构示意图；

图2为本实用新型实施例二的多腔体超低温磁控溅射镀膜机的结构示意图(阴极靶材位于阴极小室内时)；

图3为图2中细节A的放大图；

图4为本实用新型实施例二的多腔体超低温磁控溅射镀膜机的结构示意图(阴极靶材退出阴极小室内时)。

标号说明：