[实用新型]一种新型晶棒

权利要求书

1.一种新型晶棒,包括由铽镓石榴石加工而成的晶棒本体，其特征在于：晶棒本体呈斜圆柱状，晶棒本体于轴向的两端形成第一透光面和第二透光面，与晶棒本体的轴向垂直且不与第一透光面和第二透光面相交的截面为横截面，第一透光面与横截面的夹角为1.2°，第二透光面与横截面的夹角为1.2°，第一透光面与第二透光面之间的距离在10-14mm，晶棒本体的直径在2.78-2.82mm，第一透光面上复合有第一增透膜，第一增透膜包括第一氧化铪膜层和复合在第一氧化铪膜层上的第一二氧化硅膜层，第二透光面上复合有第二增透膜，第二增透膜包括第二氧化铪膜层和复合在第二氧化铪膜层上的第二二氧化硅膜层，第一氧化铪膜层的厚度在470-520纳米，第一二氧化硅膜层的厚度在250-320纳米，第二氧化铪膜层的厚度在470-520纳米，第二二氧化硅膜层的厚度在250-320纳米。

2.如权利要求1所述的一种新型晶棒,其特征在于：所述第一增透膜包括多个所述第一氧化铪膜层和多个所述第一二氧化硅膜层，所述第一氧化铪膜层和所述第一二氧化硅膜层沿所述晶棒本体的轴向交替布设，所述第二增透膜包括多个所述第二氧化铪膜层和多个所述第二二氧化硅膜层，所述第二氧化铪膜层和所述第二二氧化硅膜层沿所述晶棒本体的轴向交替布设。

3.如权利要求2所述的一种新型晶棒,其特征在于：所述第一氧化铪膜层为两层，所述第一二氧化硅膜层为两层，所述第二氧化铪膜层为两层，所述第二二氧化硅膜层为两层。

4.如权利要求3所述的一种新型晶棒,其特征在于：所述第一氧化铪膜层以真空镀的方式形成，所述第一二氧化硅膜层以真空镀的方式形成，所述第二氧化铪膜层以真空镀的方式形成，所述第二二氧化硅膜层以真空镀的方式形成。

5.如权利要求4所述的一种新型晶棒,其特征在于：所述铽镓石榴石的莫氏硬度为8级。