[实用新型]一种用于基坑止水帷幕渗漏检测装置有效
申请号: | 202021857235.X | 申请日: | 2020-08-31 |
公开(公告)号: | CN213709647U | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
发明(设计)人: | 马龙;张辉;刘国;贾辉;白朝旭;高宏伟;孙玉辉;赵翔 | 申请(专利权)人: | 北京市勘察设计研究院有限公司 |
主分类号: | E02D33/00 | 分类号: | E02D33/00;E02D19/18 |
代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人: | 沈波 |
地址: | 100038 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 基坑 止水 帷幕 渗漏 检测 装置 | ||
本实用新型公开了一种用于基坑止水帷幕渗漏检测装置,包括止水帷幕、钻孔、仪器主机、供电电极A、回路电极B∞和观测电极;钻孔沿止水帷幕的周向布设。在距止水帷幕的3m范围内沿帷幕布设观测电极;保持回路电极B∞的位置不变,将供电电极A依次从孔底移动到孔口,并分别进行电位梯度观测,直至完成整个基坑的止水帷幕检测工作;对观测数据进行处理、分析,即可确定止水帷幕发生渗漏的位置和规模。本实用新型可实施性强;减少了钻孔数量,既降低了检测成本,又避免了对止水帷幕的结构造成破坏;检测灵敏度和精度高。
技术领域
本实用新型涉及一种用于基坑止水帷幕渗漏检测装置,可广泛应用于水泥土搅拌墙、地下连续墙、咬合桩等不同形式的基坑止水帷幕中,用于检测止水帷幕发生渗漏的位置和规模。
背景技术
止水帷幕是深基坑工程地下水控制的主要技术措施,主要用于阻止地下水从基坑侧壁或底部流入基坑。但是在工程实践中,由于水文地质情况调查不充分、止水方案选择不当、施工质量控制不严等原因,止水帷幕失效的情况时有发生,导致了很多基坑工程事故。因此,若能在基坑开挖前判断渗漏并准确检测出渗漏发生的位置,便能预先采取加固堵漏措施,避免开挖时因止水帷幕渗漏产生各类风险。
在目前的基坑止水帷幕渗漏检测中,最常用的方法主要有测量降水前、后帷幕两侧电阻率变化的高密度电法、跨孔电阻率CT、跨孔声波CT、跨孔电阻率CT、渗流场法(电位法)等方法,但各方法均具有一定的局限性,比如开展高密度电法检测工作需要具有能布设测线的开阔场地,且场地不能硬化,而城市基坑场地往往难以满足这样的条件;跨孔CT方法精度高,但需要沿基坑布设较多的钻孔,这一方面增加了检测成本,另一方面也对止水帷幕结构造成了破坏;渗流场法(电位法)虽然可以检测出渗漏发生的位置,但精度较低,不利于进行精准修复。
实用新型内容
为了克服背景技术中的技术问题,本实用新型采用的技术方案是:
一种用于基坑止水帷幕渗漏检测装置,包括止水帷幕1、钻孔2、仪器主机 3、供电电极A4、回路电极B∞5和观测电极6;钻孔2布设在止水帷幕1内侧或外侧适当距离的位置,钻孔2的深度与止水帷幕1的高度相等;供电电极 A4位于钻孔2中,回路电极B∞5位于止水帷幕1的外部;观测电极6位于止水帷幕1的内侧且沿止水帷幕1的周向进行布设;供电电极A4、回路电极B∞5 和观测电极6均与仪器主机3连接。
进一步地,止水帷幕为水泥土搅拌墙、地下连续墙或咬合桩等。
进一步地,钻孔2要求为裸眼孔且裸眼孔中充满水或泥浆。
进一步地,仪器主机3为电法仪。
进一步地,供电电极A4和回路电极B∞5为铜电极,观测电极6为不极化电极。
进一步地,在基坑内部或外部适当位置布设钻孔2,钻孔2要求打到基坑底板深度,并测量钻孔2距止水帷幕1的距离。
进一步地,回路电极B∞5布设在距离钻孔2大于5倍待检测帷幕1长度的适当位置。
进一步地,在距止水帷幕1的3m范围内沿帷幕布设观测电极6(即电位梯度观测装置MN),分别观测平行止水帷幕1方向和垂直止水帷幕1方向上的电位梯度变化,并做好记录;
进一步地,保持回路电极B∞5的位置不变,将供电电极A4依次从孔底移动到孔口,并分别进行电位梯度观测,直至完成整个基坑的止水帷幕检测工作.
进一步地,对观测数据进行处理、分析,即可确定止水帷幕发生渗漏的位置和规模。
本实用新型的有益效果是:(1)检测条件少,可实施性强;(2)减少了钻孔数量,既降低了检测成本,又避免了对止水帷幕的结构造成破坏;(3)检测灵敏度和精度高。
附图说明
图1是本实用新型的观测装置示意图。
图2是本实用新型的观测装置平面示意图。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京市勘察设计研究院有限公司,未经北京市勘察设计研究院有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202021857235.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。