[实用新型]基于环状磁约束技术的击穿光谱检测系统有效
| 申请号: | 202021838913.8 | 申请日: | 2020-08-28 |
| 公开(公告)号: | CN212341016U | 公开(公告)日: | 2021-01-12 |
| 发明(设计)人: | 李红莲;谢红杰;张仕钊;李小亭;方立德 | 申请(专利权)人: | 河北大学 |
| 主分类号: | G01N21/71 | 分类号: | G01N21/71 |
| 代理公司: | 石家庄国域专利商标事务所有限公司 13112 | 代理人: | 张莉静 |
| 地址: | 071002 *** | 国省代码: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 基于 环状 约束 技术 击穿 光谱 检测 系统 | ||
1.一种基于环状磁约束技术的击穿光谱检测系统,其特征是,所述系统包括激光发射机构、环状磁场机构、检测机构、信号采集机构和计算机;
所述激光发射机构包括Nd:YAG激光器、反射镜和聚焦透镜,所述Nd:YAG激光器用于发射脉冲激光,所述反射镜用于改变脉冲激光的传播方向,所述聚焦透镜用于对脉冲激光进行会聚,经会聚后的脉冲激光射入所述检测机构;
所述检测机构包括用于放置被测样品的置物台,所述环状磁场机构包括环绕所述置物台设置的N极大磁铁、S极大磁铁、第一N极小磁铁、第二N极小磁铁、第一S极小磁铁和第二S极小磁铁;所述N极大磁铁位于置物台左侧,所述S极大磁铁位于置物台右侧,所述第一N极小磁铁和第一S极小磁铁位于置物台上侧,所述第二N极小磁铁和第二S极小磁铁位于置物台下侧,所述第一N极小磁铁与第二S极小磁铁竖直相对,所述第一S极小磁铁与第二N极小磁铁竖直相对;
所述信号采集机构包括光纤以及与所述光纤相连的光谱仪,所述光谱仪与计算机相连;所述光纤靠近所述置物台设置,并用于对被测样品产生的等离子体进行采集并传输到光谱仪;所述计算机用于对光谱仪输入的信号进行数据处理与分析。
2.根据权利要求1所述的基于环状磁约束技术的击穿光谱检测系统,其特征是,所述光谱仪为海洋光学Maya2000光纤光谱仪。
3.根据权利要求1所述的基于环状磁约束技术的击穿光谱检测系统,其特征是,所述Nd:YAG激光器可发射波长为1064nm的脉冲激光。
4.根据权利要求1所述的基于环状磁约束技术的击穿光谱检测系统,其特征是,在所述置物台的中心设有旋转平台,所述被测样品置于所述旋转平台上。
5.根据权利要求4所述的基于环状磁约束技术的击穿光谱检测系统,其特征是,所述N极大磁铁、S极大磁铁、第一N极小磁铁、第二N极小磁铁、第一S极小磁铁和第二S极小磁铁的中轴线与所述旋转平台的中轴线均处于同一平面内。
6.根据权利要求1所述的基于环状磁约束技术的击穿光谱检测系统,其特征是,所述激光发射机构包括激光控制器,所述激光控制器用于控制Nd:YAG激光器的输出能量。
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