[实用新型]一种还原炉钟罩清洗系统

说明书

本实用新型涉及多晶硅生产技术领域，尤其涉及一种还原炉钟罩清洗系统，其包括:废水收集构件，其用于聚集清洗废水；脱盐水罐，其用于储备脱盐水；碱液罐，其用于储备碱液；碱液罐与废水收集构件连通；清洗装置的进液口分别与脱盐水罐的出液口、碱液罐的出液口和废液罐的出液口连通；清洗装置能够选择地从脱盐水罐或碱液罐或废液罐抽取液体；沉降池与废水收集构件连通；废碱泵的进液口能够选择地与沉降池的出液口或废液罐的出液口连通；废碱泵的出液口能够选择地与碱液罐连通或通向下一工艺；废液罐与废水收集构件连通。采用本实用新型能够提升还原炉钟罩清洗和废液处理的安全性。

技术领域

本实用新型涉及多晶硅生产技术领域，尤其涉及一种还原炉钟罩清洗系统。

背景技术

多晶硅，是单质硅的一种形态，是极为重要的优良半导体材料。多晶硅是电子工业中广泛用于制造半导体收音机、录音机、电冰箱、彩电、录像机、电子计算机等的基础材料，多晶硅生产主要是采用改良西门子法，改良西门子法生产多晶硅的反应器主要采用多晶硅还原炉，该方法是将多晶硅还原炉内安装沉积载体通电发热，在多晶硅还原炉内将高纯度氯硅烷与氢气的混合气体加热到1000℃以上发生反应生成硅，硅沉积在上述沉积载体上的过程，伴随着多晶硅生产，多晶硅还原炉内表面会被高温混合气烧黑，同时也会在多晶硅还原炉内表面上沉积一定厚度的多晶硅和副产物,降低了还原炉内部的热辐射值，影响了还原炉热场，同时增加了还原炉的能耗。多晶硅生产过程中，每次完成一炉的硅棒生产后，在重新装炉开始生产之前，都需要对还原炉钟罩进行清洗。

现有的清洗方法是采用高压清洗机，用脱盐水和氢氧化钠溶液通过高压喷枪直接进行冲洗，使硅和氢氧化钠产生化学反应，将还原炉钟罩附着的硅完全反应，清洗后的废液混合进入废液罐。由于废液罐内部有残留的硅粉和氢氧化钠会继续反应，反应中会释放氢气，Si+2NaOH+H2O＝Na2SiO3+2H2↑。使氢气在废液罐内富集，如遇静电和明火就会发生闪爆事故，而且，脱盐水清洗后的废水与碱液混合在废液罐，会增加大量碱性废液，对环保、排污造成压力。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型提供一种还原炉钟罩清洗系统，主要目的在于提升还原炉钟罩清洗和废液处理的安全性。

为达到上述目的，本实用新型主要提供如下技术方案：

本实用新型的实施例提供一种还原炉钟罩清洗系统，包括:废水收集构件、脱盐水罐、碱液罐、清洗装置、沉降池、废碱泵和废液罐；

所述废水收集构件用于聚集清洗废水；

所述脱盐水罐用于储备脱盐水；所述脱盐水罐上设置有进水口，用于补充脱盐水；

所述碱液罐用于储备碱液；所述碱液罐与所述废水收集构件连通，用于收集清洗废水；所述碱液罐上具有补液口，用于补充脱盐水或碱液；所述碱液罐上具有进气口一；所述碱液罐上具有出气口一；

所述清洗装置的进液口与所述脱盐水罐的出液口连通；

所述清洗装置的进液口与所述碱液罐的出液口连通；

所述清洗装置的进液口与所述废液罐的出液口连通；

所述清洗装置能够选择地从所述脱盐水罐或所述碱液罐或所述废液罐抽取液体，对还原炉钟罩进行冲洗；

所述沉降池与所述废水收集构件连通，用于收集清洗废水，进行沉降；所述沉降池上具有放空口；

所述废碱泵的进液口能够选择地与所述沉降池的出液口或所述废液罐的出液口连通；所述废碱泵的出液口能够选择地与所述碱液罐连通或通向下一工艺；

所述废液罐与所述废水收集构件连通，用于收集清洗废水；所述废液罐上具有进气口二；所述废液罐上具有出气口二。

进一步地，所述碱液罐与所述废水收集构件通过第一管道连通；所述第一管道上设置有第一控制阀；