[实用新型]一种用于电子显微镜试片的制备装置有效

专利信息
申请号: 202021818384.5 申请日: 2020-08-27
公开(公告)号: CN212794388U 公开(公告)日: 2021-03-26
发明(设计)人: 严祥平 申请(专利权)人: 上海芯愿集成电路技术有限公司
主分类号: B24B19/00 分类号: B24B19/00;B24B41/04;B24B55/03;B24B55/06;B24B55/12;C02F9/02
代理公司: 上海首言专利代理事务所(普通合伙) 31360 代理人: 苗绘
地址: 201613 上海*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 用于 电子显微镜 试片 制备 装置
【说明书】:

本实用新型涉及显微镜技术领域,且公开了一种用于电子显微镜试片的制备装置,包括打磨机,所述打磨机前端转动连接有磨片,所述打磨机上表面设置有底座,所述底座右侧设置有开关,所述底座上表面设置有连杆,所述连杆远离底座的一端设置有照明灯,所述底座内部设置有电瓶,所述打磨机下侧设置有漏斗箱,所述漏斗箱下端设置有斜方槽,所述斜方槽远离漏斗箱的一端固定安装有水槽,所述水槽内部设置有循环泵。该用于电子显微镜试片的制备装置,通过设置的循环泵、水管、水槽等结构不仅可以实时对试片进行清洗,方便观察试片的打磨程度,而且可以循环水资源,循环用水,具备方便观察、循环用水等优点,解决了上述问题。

技术领域

本实用新型涉及显微镜技术领域,具体为一种用于电子显微镜试片的制备装置。

背景技术

电子显微镜,简称电镜,经过五十多年的发展已成为现代科学技术中不可缺少的重要工具。电子显微镜由镜筒、真空装置和电源柜三部分组成。

电子显微镜技术的应用是建立在光学显微镜的基础之上的,光学显微镜的分辨率为0.2μm,透射电子显微镜的分辨率为0.2nm,也就是说透射电子显微镜在光学显微镜的基础上放大了1000倍。

传统的电子显微镜试片都是通过打磨机或者研磨装置来进行打磨,但是传统的打磨机或者研磨装置因为打磨时出现大量的粉尘导致打磨时看不清楚试片已经打磨到什么程度,容易导致电子显微镜试片的打磨失败,因此有必要对传统的电子显微镜制备装置进行改进。

发明内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种用于电子显微镜试片的制备装置,具备方便观察、循环用水等优点,解决了上述技术问题。

(二)技术方案

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种用于电子显微镜试片的制备装置,包括打磨机,所述打磨机前端转动连接有磨片,所述打磨机上表面设置有底座,所述底座右侧设置有开关,所述底座上表面设置有连杆,所述连杆远离底座的一端设置有照明灯,所述底座内部设置有电瓶,所述打磨机下侧设置有漏斗箱,所述漏斗箱下端设置有斜方槽,所述斜方槽远离漏斗箱的一端固定安装有水槽,所述水槽内部设置有循环泵,所述循环泵上表面设置有水管,所述水管远离循环泵的一端设置有喷水口,所述循环泵的左侧设置有软管,所述软管远离循环泵的一端设置有过滤装置,所述过滤装置包括网孔管、沙石层、活性炭层、过滤膜。

优选的,所述照明灯位于磨片的上侧,所述照明灯与开关、电瓶为电性连接。

通过设置的照明灯、开关、电瓶可以在打磨电子显微镜试片时让工作人员看的更加清楚,以免因为光线原因导致打磨试片失败,提升装置的使用效果。

优选的,所述漏斗箱下方出口与斜方槽相匹配。

通过设置将漏斗箱下方出口设置和斜方槽相匹配,可以防止收集污水时导致泄漏,提升装置的使用效果。

优选的,所述水槽左侧开设有与斜方槽相匹配的方形孔。

通过设置在水槽左侧开设有方形孔,可以方便斜方槽内的水进入水槽中。

优选的,所述喷水口位于照明灯与磨片之间。

通过将喷水口设置在照明灯和磨片之间,可以方便人们观察电子显微镜的试片已经磨到什么程度,提升装置的使用效果。

优选的,所述网孔管外表面设置有过滤膜,所述网孔管内壁左右两侧均设置有沙石层,两层所述沙石层之间设置有活性炭层。

通过设置的网孔管、沙石层、活性炭层和过滤膜可以将污水过滤一下重新使用,循环用水,提升装置的使用效果。

与现有技术相比,本实用新型提供了一种用于电子显微镜试片的制备装置,具备以下有益效果:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海芯愿集成电路技术有限公司,未经上海芯愿集成电路技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202021818384.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top