[实用新型]智能设备、微透镜阵列投影装置及其阵列基板有效
申请号: | 202021775228.5 | 申请日: | 2020-08-21 |
公开(公告)号: | CN212647249U | 公开(公告)日: | 2021-03-02 |
发明(设计)人: | 李建德;陈冠宏;冯坤亮;李宗政 | 申请(专利权)人: | 欧菲微电子技术有限公司;欧菲光集团股份有限公司 |
主分类号: | G03B21/14 | 分类号: | G03B21/14;G09F19/18 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 熊永强 |
地址: | 330096 江西省南昌市南昌*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 智能 设备 透镜 阵列 投影 装置 及其 | ||
1.一种微透镜阵列基板,其特征在于,包括:光学系统与图像层,所述光学系统包括沿光轴方向间隔且相对设置的第一微透镜阵列元件与第二微透镜阵列元件,所述第一微透镜阵列元件包括第一基体与第一透镜层,所述第一基体包括第一表面以及与所述第一表面相对设置的第二表面,所述图像层形成在所述第一表面,所述第一透镜层形成在所述第二表面,所述第二微透镜阵列元件包括第二基体、第二透镜层以及第三透镜层,所述第二基体包括第三表面以及与所述第三表面相对设置的第四表面,第三表面朝向所述第二表面,所述第二透镜层形成在所述第三表面,所述第三透镜层形成在所述第四表面;所述第一透镜层的外表面包括第一弧面,所述第二透镜层的外表面包括第二弧面,所述第三透镜层的外表面包括第三弧面,以使得外界的光线经过所述图像层后,依次经所述第一弧面、所述第二弧面以及所述第三弧面折射后,在成像面上成像。
2.根据权利要求1所述的微透镜阵列基板,其特征在于,第一弧面的顶点到所述第二表面的距离在15um-1000um之间,所述第二弧面的顶点到所述第三表面之间的距离在15um-1000um之间,所述第三弧面的顶点到所述第四表面之间的距离在15um-1000um之间。
3.根据权利要求1所述的微透镜阵列基板,其特征在于,所述光学系统的有效焦距在0.1mm~10mm之间。
4.根据权利要求1所述的微透镜阵列基板,其特征在于,所述光学系统满足条件式:1≤TTL/ImgH≤8,其中,TTL为所述第一表面至所述成像面于光轴上的距离,ImgH为成像面有效像素区域对角线长的一半。
5.根据权利要求1所述的微透镜阵列基板,其特征在于,所述第一弧面为凸面,所述第二弧面为凸面,所述第三弧面为凸面;或者,所述第一弧面为凹面,所述第二弧面为凸面,所述第三弧面为凹面。
6.根据权利要求1所述的微透镜阵列基板,其特征在于,所述第一透镜层包括多个依次连接的第一微透镜,每个所述第一微透镜包括一个所述第一弧面;所述第二透镜层包括多个依次连接的第二微透镜,每个所述第二微透镜包括一个所述第二弧面;所述第三透镜层包括多个依次连接的第三微透镜,每个所述第三微透镜包括一个所述第三弧面,多个所述第一微透镜、多个所述第二微透镜以及多个所述第三微透镜一一对应,相对应的一个所述第一微透镜、所述第二微透镜以及所述第三微透镜形成一个透镜单元;经多个所述透镜单元折射形成的图像在所述成像面上重合。
7.根据权利要求1所述的微透镜阵列基板,其特征在于,所述第二微透镜阵列元件为多个,多个所述第二微透镜阵列元件沿光轴方向依次设置,且多个所述第二微透镜阵列元件位于所述第一微透镜阵列元件的同一侧。
8.根据权利要求1所述的微透镜阵列基板,其特征在于,所述第一透镜层的材质包括紫外胶,第二透镜层的材料包括紫外胶,所述第三透镜层的材质包括紫外胶;所述第一透镜层通过纳米压印或者热回流工艺形成,所述第二透镜层通过纳米压印或者热回流工艺形成,所述第三透镜层通过纳米压印或者热回流工艺形成。
9.一种微透镜阵列投影装置,其特征在于,包括光源、匀光镜组以及如权利要求1-8任一项所述的微透镜阵列基板,所述匀光镜组设于所述光源与所述微透镜阵列基板之间。
10.一种智能设备,其特征在于,包括如权利要求9所述的微透镜阵列投影装置。
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