[实用新型]硅碎片清洗装置

说明书

本公开涉及一种硅碎片清洗装置，包括：主体，所述主体设有第一容腔，第一容腔中设有进液口以及出液口；硅碎片收集结构，所述硅碎片收集结构放置于第一容腔中；其中，第一容腔设有用于供硅碎片收集结构通过的第一开口；所述硅碎片收集结构的底部为网栅结构；所述主体设有框架，框架位于第一容腔中，且框架与第一容腔的底壁之间存在间隙；所述第一容腔中还设有溢流口；所述主体的内壁设有超声波振板；主体内设有一个或多个从上往下依次布置的加热器。

技术领域

本公开涉及硅片清洗技术领域，尤其涉及一种太阳能硅碎片清洗装置。

背景技术

在太阳能硅片的制备过程中，在线切、脱胶、清洗等环节中不可避免会产生硅碎片，硅碎片为不合格品，不能直接作为产品使用。由于节约成本的需求，可以考虑将硅碎片回收使用。而未清洗的硅碎片表面残留有各种杂质，比如硅粉、冷却液、脱胶剂等，硅碎片只有经过清洗后才可以进行回收，重新进行拉晶，进而降低太阳能制造的硅成本。目前现有技术中硅碎片清洗通常为使用硅片清洗机进行清洗，但是市面上的硅片清洗机在清洗的过程中至少存在以下问题：一是占用硅片清洗机清洗硅碎片，从而影响硅片清洗的产能；二是硅碎片易掉落到清洗槽内，造成排水堵塞，需要额外对清洗线进行大清理。因而，制造一种方便单独清洗硅碎片，且方便排水的硅碎片清洗装置很有必要。

实用新型内容

本公开提供了一种硅碎片清洗装置，所述清洗装置可以单独清洗硅碎片，且有利于硅片清洗后的清洁和排水。

本公开的具体方案是：一种硅碎片清洗装置，包括：

主体，所述主体设有第一容腔，第一容腔中设有进液口以及出液口；

硅碎片收集结构，所述硅碎片收集结构放置于第一容腔中；

其中，第一容腔设有用于供硅碎片收集结构通过的第一开口。

在一些实施例中，所述硅碎片收集结构的底部为网栅结构。

在一些实施例中，所述主体设有框架，框架位于第一容腔中，且框架与第一容腔的底壁之间存在间隙。

在一些实施例中，所述间隙的范围为1-5cm。

在一些实施例中，所述第一容腔中还设有溢流口。

在一些实施例中，硅碎片收集结构设有提手。

在一些实施例中，包括多个所述硅碎片收集结构。

在一些实施例中，所述主体的内壁设有超声波振板。

在一些实施例中，主体内设有一个或多个从上往下依次布置的加热器。

在一些实施例中，还包括控制器，所述控制器包括连接至超声波振板以控制超声波振板振动的超声控制器和连接至加热器以控制加热器运作的温度控制器。

本实用新型的有效效果如下：不需要清洗碎硅片时，可直接将硅碎片收集结构从第一容腔拿出，不占用主体的正常使用；硅碎片收集结构直接放在框架上，框架离第一容腔的底壁有1-5cm左右的距离，可以保证硅碎片收集结构的水流流动，在确保硅碎片全部浸泡在水中的情况下，需要的水量较少。硅碎片收集结构为网栅结构且设有把手，有利于收集硅碎片而且容易方便工作人员直接将硅碎片从第一容腔取出和收集硅碎片，方便第一容腔的清洗和排水。

附图说明

图1是本公开其中一个实施例的清洗装置示意图；

图2是本公开其中一个实施例的清洗装置示意图；

图3是本公开其中一个实施例的硅碎片收集结构的示意图。

其中，1、主体；2、第一开口；3、进液口；4、溢流口；5、硅碎片收集结构；7、框架；8、出液口；9、提手；10、超声波振板；11、加热器；12、控制器；13、超声控制器；14、温度控制器；15、第一容腔。