[实用新型]一种全新的8英寸物理气相沉积钽腔体连接配件装置

说明书

本实用新型公开了一种全新的8英寸物理气相沉积钽腔体连接配件装置，包括：连接台和连接柱，所述连接柱设置在连接台的一端且与连接台一体成型，所述连接柱和连接台均为柱形结构，所述连接台和连接柱的外壁上均匀刻制有刻花，所述刻花包括若干条倾斜相交的凸条，所述凸条相交形成若干个六边形结构的空腔，所述连接柱表面的空腔面积小于连接台表面的空腔面积。本实用新型通过在配件表面的刻花，增大接触面积，能粘附更多的附属物，同时分散这些附着物的应力分布，附着的附属物不容易剥落，减小颗粒产生的几率，提高制程的质量，延长腔体保养的周期，从而提高机器的使用率，减小成本。

技术领域

本实用新型涉及气相沉积钽腔体配件技术领域，更具体为一种全新的8英寸物理气相沉积钽腔体连接配件装置。

背景技术

气相沉积技术是利用气相中发生的物理、化学过程，在工件表面形成功能性或装饰性的金属、非金属或化合物涂层。气相沉积技术按照成膜机理，可分为化学气相沉积、物理气相沉积和等离子体气相沉积。

目前，现有的物理气相沉积200mm钽腔体连接配件装置，表面粘附反应附属物的能力有限，随着粘附的附着物的累积，这些附着物会从该装置上剥落，产生颗粒，影响制程的质量，缩短腔体保养周期。为此，需要设计一个新的方案给予改进。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种全新的8英寸物理气相沉积钽腔体连接配件装置，解决了背景技术中所提出的问题，满足实际使用需求。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种全新的8英寸物理气相沉积钽腔体连接配件装置，包括：连接台和连接柱，所述连接柱设置在连接台的一端且与连接台一体成型，所述连接柱和连接台均为柱形结构，所述连接台和连接柱的外壁上均匀刻制有刻花，所述刻花包括若干条倾斜相交的凸条，所述凸条相交形成若干个六边形结构的空腔，所述连接柱表面的空腔面积小于连接台表面的空腔面积。

作为本实用新型的一种优选实施方式，所述连接台的表面中部开设有通孔，所述连接台和连接柱的内部开设有与通孔相连通的连接孔。

作为本实用新型的一种优选实施方式，所述连接孔的内壁上开设有环槽，所述连接孔的直径为通孔直径的两倍。

作为本实用新型的一种优选实施方式，所述环槽的深度等于连接台壁厚的三分之二。

作为本实用新型的一种优选实施方式，所述连接台的外壁呈弧形结构，所述连接台与连接柱的连接处做平滑过渡处理。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：

本实用新型，通过在配件表面的刻花，增大接触面积，能粘附更多的附属物，同时分散这些附着物的应力分布，附着的附属物不容易剥落，减小颗粒产生的几率，提高制程的质量，延长腔体保养的周期，从而提高机器的使用率，减小成本。

附图说明

图1为本实用新型所述全新的8英寸物理气相沉积钽腔体连接配件装置的结构图；

图2为本实用新型所述全新的8英寸物理气相沉积钽腔体连接配件装置的截面图；

图3为本实用新型所述全新的8英寸物理气相沉积钽腔体连接配件装置的仰视图。

图中:连接台1；连接柱2；刻花3；凸条4；空腔5；通孔6；连接孔7；环槽8。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。