[实用新型]一种双光烫画结构有效
| 申请号： | 202021657962.1 | 申请日： | 2020-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN212889656U | 公开（公告）日： | 2021-04-06 |
| 发明（设计）人： | 何鸿佳 | 申请（专利权）人： | 嘉禧国际有限公司 |
| 主分类号： | B44C5/04 | 分类号： | B44C5/04;B44F1/06 |
| 代理公司： | 广东普罗米修律师事务所 44615 | 代理人： | 黄利平 |
| 地址： | 中国香港九龙新蒲岗大有*** | 国省代码： | 香港;81 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 双光烫画 结构 | ||
【权利要求书】：
1.一种双光烫画结构，其特征在于，包括：
一基材料层；
一阻隔层，涂布于所述基材料层的上表面，用于遮盖所述基材料层，以使所述双光烫画结构呈现多层次的表面亮度；
一颜色层，设置于所述阻隔层的上表面；
一胶水层，设置于所述颜色层的上表面。
2.根据权利要求1所述的双光烫画结构，其特征在于，所述阻隔层的材料为硅性离型剂。
3.根据权利要求1所述的双光烫画结构，其特征在于，所述颜色层包括复数个反光珠。
4.根据权利要求3所述的双光烫画结构，其特征在于，所述反光珠的直径为1～200μm。
5.根据权利要求1所述的双光烫画结构，其特征在于，所述基材料层呈透明状。
6.根据权利要求1所述的双光烫画结构，其特征在于，所述双光烫画结构还包括一弹力层，设置于所述颜色层的上表面。
7.根据权利要求6所述的双光烫画结构，其特征在于，所述双光烫画结构还包括一防升华层，设置于所述弹力层的上表面。
8.根据权利要求3所述的双光烫画结构，其特征在于，所述基材料层为PET胶片或纸质材料。
9.根据权利要求1或5所述的双光烫画结构，其特征在于，所述基材料层的厚度为50～250μm。
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