[实用新型]一种G8.6掩膜版涂胶装置

说明书

本实用新型公开了一种G8.6掩膜版涂胶装置，包括两个对称的矩形主体、涂胶机转盘和PIN孔，所述涂胶机转盘上均匀设置PIN孔，所述涂胶机转盘设置在矩形主体的底部，还包括阶梯式冒头顶柱PIN和多个沉头螺钉，所述阶梯式冒头顶柱PIN设置在矩形主体长边的一侧，所述两个矩形主体上的阶梯式冒头顶柱PIN之间设置掩膜版，所述掩膜版卡在阶梯式冒头顶柱PIN低阶台的顶端，多个沉头螺钉设置在矩形主体的底部。本实用新型优点是：可以在G11涂胶机上实现G8.6的涂胶工艺；结构简单、可以牢固地安装在涂胶机转盘上，从而实现G8.6掩膜版涂胶的平稳、安全；操作方便、使用灵活，可以实现产品的快速生产换线。

技术领域

本实用新型涉及高世代掩膜版制造技术领域，具体涉及一种G8.6掩膜版涂胶装置。

背景技术

平板显示是电子信息产业的支柱之一，近年来各种类型平板显示器件随着生产技术的不断提高已进入到加速发展时期，而我国也成为全球面板产业的最重要生产基地。掩膜版又称光罩、光掩膜版、掩膜版(英文名Photo Mask，简称Mask)，它作为平板显示制造过程中最重要的核心关键材料，在平板显示器件制造的光刻工艺中起到曝光掩蔽作用，直接决定了平板显示终端产品的品质。近年来，我国显示面板行业发展非常迅速，特别是针对G8.5及以上大尺寸面板的需求和发展越来高，因此对相应尺寸的掩膜版的需求也越来越高。中国大陆新型显示面板生产线布局中G8.5有11条，G10.5/G11有5条，而G8.6也有3三条。目前已有G8.5和G11两条高世代掩膜版生产线，其中G11是国内首条产线，弥补了国内掩膜版在此领域的空白，也打破了国外长期以来的垄断优势，实现了G11高世代掩膜版的自主化生产。

随着显示行业的迅速发展，G8.5及G11目前成为大尺寸面板规格主流，但同样也有G8.6等产线的布局。因此，对于如何在G11产线上实现G8.6掩膜版的研发生产是一项挑战，尤其是在旋转涂胶工艺段，由于G8.6的长宽比较G8.5和G11要大很多，即几何形状较G8.5和G11更接近矩形。因此，在旋转涂胶过程中，掩膜版上所产生的离心力更复杂，稳定性更差。除此之外，由于产线的初始布局，涂胶机工艺段只能实现G6.5、G8.5和G11三种尺寸规格的掩膜版涂胶，要实现G8.6尺寸规格的掩膜版的涂胶，就需要在涂胶机的转盘上设计安装相应的夹具或装置。对于设计的夹具或装置，不仅需要满足符合G8.6的掩膜版尺寸，更要保证掩膜版在高速旋转下整个装置的稳定性和安全性。因此，需要设计一种G8.6掩膜版涂胶装置，解决现有技术中不能通过G11涂胶机中对G8.6掩膜版进行涂胶的缺陷。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是现有技术中不能通过G11涂胶机中对G8.6掩膜版进行涂胶的问题。

本实用新型通过下述技术方案实现：

一种G8.6掩膜版涂胶装置，包括两个对称的矩形主体、涂胶机转盘和PIN孔，所述涂胶机转盘上均匀设置PIN孔，所述涂胶机转盘设置在矩形主体的底部，还包括阶梯式冒头顶柱PIN和多个沉头螺钉，所述阶梯式冒头顶柱PIN设置在矩形主体长边的一侧，所述两个矩形主体上的阶梯式冒头顶柱PIN之间设置掩膜版，所述掩膜版卡在阶梯式冒头顶柱PIN低阶台的顶端，多个沉头螺钉设置在矩形主体的底部。

本实用新型的工作原理：高世代掩膜版在旋转涂胶过程中由于尺寸大、自重大，因此产生的离心力也越大。G8.6规格掩膜版的长宽比较G8.5和G11的都大，几何形状更不规则，因此产生的离心力更复杂，稳定性也更差。除此之外，涂胶工艺最终的光刻胶膜厚为亚微米级，涂胶均匀性要求偏差几十纳米，对整个旋转涂胶机台、掩膜版放在顶柱上的水平度要求都很高。因此要在G11涂胶机上实现G8.6规格掩膜版的涂胶，需要考虑机械和工艺调试两个方面。

现有技术是由于产线的初始布局，涂胶机工艺段只能实现G6.5、G8.5和G11三种尺寸规格的掩膜版涂胶。