[实用新型]一种用于晶圆清洗机的清洗盘

权利要求书

1.一种用于晶圆清洗机的清洗盘，包括底座、弧形块、摆夹和真空吸盘，其特征在于：所述底座上表面设置有若干个等圆心角弧形槽，所述弧形槽包括最内侧一圈的第一弧形槽、最外侧一圈的第三弧形槽和中间一圈的第二弧形槽，所述底座上第一弧形槽的内侧设置有一圈圆形定位孔，所述底座上定位孔的内侧设置有第一安装孔，所述真空吸盘设置有中空的内腔，所述真空吸盘的上端面上设置有若干排列均匀的小孔，所述小孔均与所述内腔连通，所述真空吸盘下端面上绕轴心圆形分布设置有与定位孔相配套的定位柱，所述真空吸盘的底部圆心处设置有第二安装孔，所述第二安装孔的外侧设置有环状凸台，所述弧形块紧配卡接在所述弧形槽内。

2.根据权利要求1所述的一种用于晶圆清洗机的清洗盘，其特征在于：所述第二安装孔与所述内腔连通，所述环状凸台上设置有若干个均匀分布的螺纹孔。

3.根据权利要求1所述的一种用于晶圆清洗机的清洗盘，其特征在于：所述弧形块设置三种规格尺寸，相应安装在第一弧形槽、第二弧形槽和第三弧形槽内，所述弧形块的外侧中部上方固定连接有摆夹。

4.根据权利要求1所述的一种用于晶圆清洗机的清洗盘，其特征在于：所述真空吸的盘面设置有三种尺寸，使其分别可对应第一弧形槽、第二弧形槽和第三弧形槽安装后不会影响相应直径处的摆夹的正常使用，所述真空吸盘的上表面边缘处设置有第三安装孔。

5.根据权利要求1所述的一种用于晶圆清洗机的清洗盘，其特征在于：所述底座上第一弧形槽和第二弧形槽的外侧中部均设置有避位通孔。

6.根据权利要求1所述的一种用于晶圆清洗机的清洗盘，其特征在于：所述真空吸盘表面还设置有一层细微的陶瓷颗粒。

7.根据权利要求1所述的一种用于晶圆清洗机的清洗盘，其特征在于：所述环状凸台的外径小于第一安装孔的内径，环状凸台套接在第一安装孔内。

8.根据权利要求1所述的一种用于晶圆清洗机的清洗盘，其特征在于：所述弧形块安装到弧形槽后，相对于底座的上表面弧形块高于真空吸盘的高度。