[实用新型]一种吸嘴及取料机构

权利要求书

1.一种吸嘴，其特征在于，所述吸嘴内设置有吸气通道，所述吸嘴具有用以吸取芯片的吸取端，所述吸取端的端面上凸设有多个用以与芯片的非功能区接触的接触脚，每一所述接触脚的自由端的端面上设置有与所述吸气通道连通的吸气口，多个所述接触脚相互间隔，以在任意相邻两个所述接触脚之间形成避让空间。

2.根据权利要求1所述的吸嘴，其特征在于，所述吸取端的端面上凸设有凸台，多个所述接触脚凸设于所述凸台上。

3.根据权利要求1或2所述的吸嘴，其特征在于，所述接触脚设置有两个，且两个所述接触脚在第一方向上间隔相对，所述吸气口沿与所述第一方向垂直的方向布置于所述接触脚上。

4.根据权利要求1或2所述的吸嘴，其特征在于，所述吸嘴包括用以与真空管连接的基体，所述基体包括相背的第一端面和第二端面，多个所述接触脚设置于所述第一端面上，所述第二端面上设置有安装槽，用以将所述真空管的部分容置于所述安装槽内。

5.根据权利要求4所述的吸嘴，其特征在于，所述第一端面上且位于多个所述接触脚的外围贯设有安装孔，用以通过在所述安装孔处设置螺接件，而将所述吸嘴安装于所述真空管上。

6.根据权利要求5所述的吸嘴，其特征在于，所述安装孔呈沉孔设置；和/或，所述安装孔设置有多个，且多个所述安装孔呈环绕多个所述接触脚设置。

7.一种取料机构，其特征在于，包括机架、压力传感器和如权利要求1-6任意一项所述的吸嘴，所述吸嘴设置于所述机架上，所述压力传感器设置于所述吸嘴上，所述压力传感器用以检测所述吸嘴的接触脚对芯片的压力。

8.根据权利要求7所述的取料机构，其特征在于，所述机架上设置有沿上下向延伸的真空管，所述吸嘴设置于所述真空管的下端，且所述吸嘴的吸气口朝下，所述吸嘴的吸气通道与所述真空管连通。

9.根据权利要求8所述的取料机构，其特征在于，所述真空管为能上下移动地设置于所述机架上，所述取料机构还包括驱动装置，所述驱动装置用以驱动所述真空管上下移动。

10.根据权利要求8所述的取料机构，其特征在于，所述取料机构还包括与所述真空管连通的真空表，所述真空表用以检测所述吸嘴对芯片的吸附力。