[实用新型]一种高性能真空组件的清洗装置

说明书

本实用新型公开了一种高性能真空组件的清洗装置，包括一壳体，一设置于壳体正面的控制面板，一设置于壳体内与壳体一体的池体，一设置于壳体内底部的气缸，活塞杆贯穿壳体上端面，一设置于池体开口正上方的放置架，设置于池体底部的超声波发生器以及一与池体底部连通的排水管，管内设置一阀门，所述气缸伸缩带动放置架上下滑动，向池体内注入水与清洗液，将零件放在放置架上，气缸带动放置架上下滑动，使零件在清洗液内抛动，超声波发生器使水发生振动，使组件上的污渍脱落，由于组件不断在清洗液内抛动，加快组件上的污渍脱落，清洗效率高，清洗效果好。

技术领域

本实用新型涉及清洗设备领域，具体讲是一种高性能真空组件的清洗装置。

背景技术

真空元件以真空压力为动力源，作为实现自动化的一种手段,已在电子、半导体元件组装、汽车组装、自动搬运机械、轻工机械、食品机械、医疗机械、印刷机械、塑料制品机械、包装机械、锻压机械、机器人等许多方面得到广泛的应用。

真空发生装置有真空泵和真空发生器两种。真空泵是吸入口形成负压，排气口直接通大气，两端压力比很大的抽除气体的机械。真空发生器是利用压缩空气的流动而形成一定真空度的气动元件，与真空泵相比，它的结构简单、体积小、质量轻、价格低、安装方便，与配套件复合化容易，真空的产生和解除快，宜从事流量不大的间歇工作，适合分散使用。

真空发生装置有一系列组件组装而成，在对组件加工完成后需要对组件进行清洗，当前组件的清洗主要采用人工清洗和浸入式清洗：人工清洗，劳动强度大，清洗效率低下且不能保证清洗质量；浸入式清洗，清洗液用量大、利用率低。

实用新型内容

因此，为了解决上述不足，本实用新型在此提供一种设计合理，结构简单，超声波清洗，并使组件在水中抛动，清洗效率高，清洗效果好的高性能真空组件的清洗装置。

本实用新型是这样实现的，构造一种高性能真空组件的清洗装置，包括一壳体，一设置于壳体正面的控制面板，一设置于壳体内与壳体一体的池体，一设置于壳体内底部的气缸，活塞杆贯穿壳体上端面，一设置于池体开口正上方的放置架，设置于池体底部的超声波发生器以及一与池体底部连通的排水管，管内设置一阀门，所述气缸伸缩带动放置架上下滑动，向池体内注入水与清洗液，将零件放在放置架上，气缸带动放置架上下滑动，使零件在清洗液内抛动，超声波发生器使水发生振动，使组件上的污渍脱落，由于组件不断在清洗液内抛动，加快组件上的污渍脱落，清洗效率高，清洗效果好。

进一步的，所述壳体底部四角处安装万向轮，便于装置移动。

进一步的，所述池体背面设置一架体，安装于壳体内底部，并贯穿壳体上端面，放置架与架体滑动连接。

进一步的，所述架体正面两侧安装一对导轨，导轨正面滑动连接一安装板，所述安装板正面两侧设置一对连接板，所述连接板远安装板端与放置架固定连接，放置架随导轨方向上下滑动，提高放置架运动的稳定性。

本实用新型具有如下优点：本实用新型设计合理，结构简单，超声波清洗的同时，带动组件在水中上下抛动，提高了清洗效率，且清洗效果好。通过合理的设计万向轮，所述壳体底部四角处安装万向轮，便于装置移动。

合理的设计导轨，所述架体正面两侧安装一对导轨，导轨正面滑动连接一安装板，所述安装板正面两侧设置一对连接板，所述连接板远安装板端与放置架固定连接，放置架随导轨方向上下滑动，提高放置架运动的稳定性。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是本实用新型的正视图；

图3是本实用新型的侧视图；

图4是本实用新型的俯视图；

图5是图2中A-A剖视图；

图6是图3中B-B剖视图；