[实用新型]一种高活性氧化铝粉体沉淀设备有效

专利信息
申请号: 202021445009.0 申请日: 2020-07-21
公开(公告)号: CN212789887U 公开(公告)日: 2021-03-26
发明(设计)人: 汪霖 申请(专利权)人: 昆山特乃博先进材料技术有限公司
主分类号: B01D21/01 分类号: B01D21/01;B01D21/28;C01F7/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 活性 氧化铝 沉淀 设备
【说明书】:

实用新型公开了一种高活性氧化铝粉体沉淀设备,包括支撑座、壳体、储料箱、沉淀箱和溢出室;所述支撑座的上方安装有壳体,所述壳体的底部贯穿安装有搅拌结构,所述壳体的上方通过螺栓固定有水泵,所述壳体的内部安装有沉淀室,所述沉淀室的内部安装有沉淀箱,所述沉淀室的两侧安装有溢出室,所述溢出室的上方通过转轴安装有水箱盖,所述溢出室的底部密封安装有接料箱,所述沉淀室的前后方安装有储料箱,所述储料箱的底部安装有粉末输送泵。本实用新型采用逐级沉淀的方式进行对反应后产生的氧化铝沉淀进行排出,多级沉淀可以让溶液中的氧化铝尽可能的分离出来,避免氧化铝原料的浪费,并且为工作人员节省工作时间,提高工作效率。

技术领域

本实用新型涉及化工设备技术领域,具体涉及一种高活性氧化铝粉体沉淀设备。

背景技术

在改性氧化铝的生产过程中,常常会应用到沉淀槽,在沉淀槽内进行中和反应并产生沉淀物,但是目前所用的沉淀槽,在沉淀过程中,因时间较为局促导致沉淀时间与步骤都存在着不足,故急需一种效率较高的氧化铝沉淀设备。

现有的技术存在的缺陷:

1、现有技术通常很难将氧化铝沉淀从溶液中尽可能的提取出来,在装置进行沉淀后的溶剂倒出的过程中,氧化铝沉淀很容易跟随溶剂一起流出,造成氧化铝粉体的浪费。

2、现有的装置现有的装置长需要人工进行倒入使氧化铝沉淀的溶质粉体,但是这种方式不仅容易使溶质粉体的量不易把控,而且对工作人员来说费事费力。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种高活性氧化铝粉体沉淀设备,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本实用新型作出如下技术方案:一种高活性氧化铝粉体沉淀设备,包括支撑座、壳体、储料箱、沉淀箱和溢出室;所述支撑座的上方安装有壳体,所述壳体的底部贯穿安装有搅拌结构,所述壳体的上方通过螺栓固定有水泵,所述壳体的内部安装有沉淀室,所述沉淀室的内部安装有沉淀箱,所述沉淀室的两侧安装有溢出室,所述溢出室的上方通过转轴安装有水箱盖,所述溢出室的底部密封安装有接料箱,所述沉淀室的前后方安装有储料箱,所述储料箱的底部安装有粉末输送泵。

优选的,所述储料箱的上方安装有防尘盖,防尘盖的上方通过螺钉固定有环形把手,所述储料箱的侧壁上嵌合安装有观察口。

优选的,所述粉末输送泵的上方安装有粉末流量计,所述粉末输送泵的两端安装有粉末导管。

优选的,所述搅拌结构的内部安装有旋转电机,旋转电机的输出端通过主传送带与主搅拌叶固定连接,主搅拌叶的输入端通过从传送带与从搅拌叶固定连接。

优选的,所述水泵的输入端安装有进料口,所述水泵的输出端安装有导料管。

优选的,所述沉淀箱的内壁上安装有第一吸附层和第二吸附层,且第二吸附层位于第一吸附层的上方,所述沉淀箱的内壁上安装有第三吸附层和第四吸附层,且第三吸附层位于第二吸附层的上方,第四吸附层位于第三吸附层的上方,所述沉淀箱的底部贯穿安装有第一出料口。

优选的,所述溢出室的外壁上贯穿安装有出液口。

优选的,所述接料箱的上方安装有旋转卡件,所述接料箱的上方安装有把手,且把手位于旋转卡件的下方。

优选的,所述沉淀室的底部贯穿安装有第二出料口,所述沉淀室的上方两侧贯穿安装有第三出料口。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:

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