[实用新型]低能耗中空玻璃

权利要求书

1.低能耗中空玻璃，其特征在于，包括玻璃基板以及设置于所述玻璃基板表面的膜层组件，所述膜层组件包括依次呈层叠设置的第一电介质干涉层、半导体低辐射层、合金光吸收层、电介质抗氧化层、第二电介质干涉层、第三电介质干涉层、第一复合介质保护层以及第二复合介质保护层，所述第一电介质干涉层设置于所述玻璃基板上；

所述电介质抗氧化层ZnAlO_X层，所述电介质抗氧化层的厚度为20～30nm；所述第二电介质干涉层和所述第三电介质干涉层均为TiO₂层或SiO₂层；所述第二电介质干涉层厚度为10～20nm，所述第三电介质干涉层为15～20nm；所述第一复合介质保护层和所述第二复合介质保护层均为AZO层或Nb₂O₅层。

2.如权利要求1所述的低能耗中空玻璃，其特征在于，所述合金光吸收层为NiCrN _X层，所述合金光吸收层的厚度均为16nm～18nm。

3.如权利要求1所述的低能耗中空玻璃，其特征在于，所述半导体低辐射层为ITO层，所述半导体低辐射层的厚度为9nm～12nm。

4.如权利要求1所述的低能耗中空玻璃，其特征在于，所述第一电介质干涉层为Al₂O₃层，所述第一电介质干涉层的厚度为25～35nm。

5.如权利要求1至4任一项所述的低能耗中空玻璃，其特征在于，所述玻璃基板为白玻基板或超白原片基板。