[实用新型]足下净装置有效

专利信息
申请号: 202021400294.4 申请日: 2020-07-16
公开(公告)号: CN213129282U 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 李孝达 申请(专利权)人: 李孝达
主分类号: A47K3/022 分类号: A47K3/022;A61L2/18;A61M35/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 430023 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 足下 装置
【权利要求书】:

1.一种足下净装置,由消毒、去污两部分组成,其特征是:消毒部分:由消毒盘装置、水平衡系统、托板装置组合;消毒盘装置的消毒盘(1)腔内有水槽(4)、孔状面板(2)、盘外底面设置有棒座(6)、开关棒(7)、还设置有四个定位柱(5);水平衡系统是由水箱(12)、出水管(13)、水阀(14)、软管(15)、进水管(16)、调节阀(17)、射水管(18)串通;托板装置的托板(8)的板面上设置有开关门(9)、管座(10),管内有压缩弹簧(11),与消毒盘的定位柱配套;去污部分:有去污盘、静电毯;去污盘(19)是三盘的组合体,中间是网格盘(20),侧边有左脱水盘(21)、右脱水盘(29),二个脱水盘结构一样;在脱水盘腔内设置有框架(22),框架下与三角形支架(32)连接,脱水盘内前壁上设置有弹力片(23)、档板(24),后壁中间设置有定位栓(30);框架倾斜向前,在框架内有能转动的辊筒(25),辊筒内的轴头横向固定在框架两侧,辊筒与辊筒之间留有空档,毛刷(26),刮板(27),穿花交叉排列置于辊筒之间的空档中,毛刷、刮板的下端固定在框架的纵向条板(31)上;槽板(28)设置在辊筒之后的框架上面;在去污盘与静电毯之间的两侧各设置一立柱扶手(33),立柱顶上有圆盘(34)、消毒液瓶(35),向前是扇形的静电毯(36)。

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