[实用新型]一种可调节的氧化镓清洗装置

说明书

本实用新型涉及氧化镓生产技术领域，且公开了一种可调节的氧化镓清洗装置，包括底座，所述底座的内腔固定安装有固定板，所述固定板底部的左右两侧均固定安装有伸缩杆。该可调节的氧化镓清洗装置，通过设置驱动电机，当需要调整清洗池的高度时，只需通过控制面板将驱动电机启动，使转动轮旋转，通过传动皮带带动从动轮转动，使得转杆在两个限位杆的限制下稳定转动，带动其左右两侧的转动锥齿转动，通过啮合带动啮合锥齿转动，使得转动套杆转动，由于在转动套杆内开设有与螺杆相适配的螺纹孔，在转动套杆转动的过程中，螺杆受其螺纹推力而上下移动，推动调节板上下移动，从而灵活调节清洗池的高度，使设备达到便于调节高度的效果。

技术领域

本实用新型涉及氧化镓生产技术领域，具体为一种可调节的氧化镓清洗装置。

背景技术

氧化镓别名三氧化二镓，氧化镓是一种宽禁带半导体，Eg=4.9eV，其导电性能和发光特性长期以来一直引起人们的注意，Ga2O3是一种透明的氧化物半导体材料，在光电子器件方面有广阔的应用前景，被用作于Ga基半导体材料的绝缘层，以及紫外线滤光片，它还可以用作O2化学探测器。

在氧化镓生产的过程中，需要先对其原料进行清洗和加工，目前现有的氧化镓清洗装置一般存在着不便于调节高度的缺点，由于缺少相应的高度调节机构，使得用户无法根据自己的实际使用需求对氧化镓清洗装置的高度进行调节，从而使清洗效率受到影响，不能更好的满足人们的使用需求，故而提出一种可调节的氧化镓清洗装置来解决上述所提出的问题。

实用新型内容

（一）解决的技术问题

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种可调节的氧化镓清洗装置，具备便于调节高度等优点，解决了目前现有的氧化镓清洗装置一般存在着不便于调节高度的缺点，由于缺少相应的高度调节机构，使得用户无法根据自己的实际使用需求对氧化镓清洗装置的高度进行调节，从而使清洗效率受到影响，不能更好的满足人们使用需求的问题。

（二）技术方案

为实现上述便于调节高度的目的，本实用新型提供如下技术方案：一种可调节的氧化镓清洗装置，包括底座，所述底座的内腔固定安装有固定板，所述固定板底部的左右两侧均固定安装有伸缩杆，两个所述伸缩杆之间的底部固定安装有缓冲板，所述缓冲板的左右两侧均固定安装有一端与底座活动连接的滑块，所述缓冲板底部的左右两侧均固定安装有移动轮，所述缓冲板的顶部固定安装有一端与固定板固定连接的缓冲弹簧，所述固定板顶部的左右两侧均固定安装有限位杆，两个所述限位杆之间活动安装有转杆，所述转杆的左右两侧均固定安装有转动锥齿，所述转杆的外侧固定安装有从动轮，所述底座的顶部固定安装有工作台，所述固定板顶部的左右两侧均活动安装有一端与工作台活动连接的转动套杆，所述转动套杆外侧的底部固定安装有一端与转动锥齿相啮合的啮合锥齿，所述转动套杆的顶部活动安装有螺杆，两个所述螺杆之间的顶部固定安装有调节板，所述调节板的顶部固定安装有清洗池，所述工作台的顶部固定安装有驱动电机，所述驱动电机的输出轴固定安装有转动轮，所述转动轮与从动轮的外侧传动连接有传动皮带，所述底座正面的顶部固定安装有控制面板。

优选的，所述转动套杆的底部固定安装有转动轴承，且转动套杆通过转动轴承与固定板活动连接，所述限位杆与固定板呈九十度垂直安装。

优选的，所述转动套杆的顶部开设有螺纹孔，且螺纹孔与螺杆相适配，所述调节板的截面呈U字形。

优选的，所述工作台的顶部固定安装有连接块，且工作台通过连接块与驱动电机固定连接，所述缓冲弹簧的数量为五个。

优选的，两个所述限位杆相对的一侧均开设有通孔，且通孔与转杆相适配，所述螺杆与调节板呈九十度垂直安装。

优选的，所述转动套杆的数量为两个，且两个转动套杆以底座的中垂线呈对称分布，所述底座的左右两侧壁均固定安装有滑轨，且滑轨与滑块相适配。

（三）有益效果