[实用新型]二元气雾剂清洗装置

权利要求书

1.二元气雾剂清洗装置，其特征在于，包括清洗缸、清洗料筒、单向阀体、压缩弹簧和清洗头，所述清洗缸与PLC控制器连接，所述清洗缸的活塞杆连接清洗料筒，所述清洗料筒的一侧设有进料阀，所述进料阀连通清洗料筒内的清洗剂腔，所述清洗剂腔呈T形，

所述清洗头内设有清洗腔，所述清洗头的顶部设有穿孔、底部设有定位套，所述定位套用于定位二元气雾剂的罐体，

所述清洗头的一侧设有压缩空气进口，另一侧设有废料排出口，所述穿孔、定位套、压缩空气进口和废料排出口分别和清洗腔连通，

所述单向阀体的上端呈T形且设在清洗剂腔内，下端通过穿孔伸入清洗头的清洗腔内，

所述单向阀体伸入清洗腔的下端设有固定套，所述固定套的底部设有连通单向阀体、清洗腔以及定位套的导孔，

所述清洗料筒的外部设有凸台，所述压缩弹簧套设在清洗料筒上、且位于凸台和清洗头之间。

2.根据权利要求1所述的二元气雾剂清洗装置，其特征在于，所述清洗缸的活塞杆呈十字形、且两侧分别伸出清洗缸，所述清洗缸的一侧设有导柱，所述清洗缸的活塞杆顶部设有连接片，所述导柱上设有导套，所述导套的外侧设有定位槽，所述连接片位于定位槽内。

3.根据权利要求1或2所述的二元气雾剂清洗装置，其特征在于，还包括清洗剂料筒，所述清洗剂料筒包括筒体，所述筒体的顶部设有补液料斗、高压输入口、泄压口和出料口，

所述出料口连通清洗料筒一侧的进料阀。

4.根据权利要求3所述的二元气雾剂清洗装置，其特征在于，所述筒体的一侧设有液位计。