[实用新型]降低电力柜铜排的连接电阻及接触器的接触电阻的结构有效

专利信息
申请号: 202021243383.2 申请日: 2020-06-30
公开(公告)号: CN212365864U 公开(公告)日: 2021-01-15
发明(设计)人: 何少云 申请(专利权)人: 中山佳一电子技术有限公司
主分类号: H01H50/14 分类号: H01H50/14;H01B5/02;H01R4/58
代理公司: 中山颖联知识产权代理事务所(普通合伙) 44647 代理人: 钟作亮
地址: 528400 广东省中山*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 降低 电力 柜铜排 连接 电阻 接触器 接触 结构
【说明书】:

实用新型涉及降低电力柜铜排的连接电阻及接触器的接触电阻的结构,包括接触端子,所述接触端子上设有与导体接触的接触部,在所述接触部上间隔设置有多个V形槽,所述V形槽与导体配合连接。该实用新型,通过在铜母线及各种交直流接触器的触头上设置有多个V形槽,既能保证接触良好,又能增加接触面的接触面积,电流是电子在金属里面传导,通道空间越大,单位时间内通过的电流越多,即降低接触电阻,从而使得发热量降低,有助于提高整体系统的安全系数,成本低,使用寿命长;此外,本实用新型的V形槽角度设置在一定的范围内,可批量加工生产,提高生产效益。

技术领域

本实用新型涉及电力柜铜排连接及各种交直流接触器技术领域,特别涉及一种降低电力柜铜排的连接电阻及接触器的接触电阻的结构。

背景技术

如图1和图2所示,分别是现有技术中的铜排和交直流接触器触头的形状,变电站、配电房常用的铜母线及各种交、直流接触器,其接触面及触头的尺寸是按照载流量大小而设计的,根据截面积允许的载流量来选择铜母线的尺寸及各种交直流接触器的型号与规格。

由于上述铜排连接的部位以及各种交直流接触器的触头在连接时会产生一定的电阻而发热,在通过同等电流的情况下,接触面积越窄,其发热量就会越大。由于其接触面是光滑的平面,这样与导体连接时,两者最大的接触面积也是触头的接触面积。若在原有的基础上加大接触面的平面尺寸,虽然能解决该技术问题,但是不仅会增加整体尺寸,而且会增加成本。

实用新型内容

针对现有技术的不足,本实用新型的目的在于提供一种降低电力柜铜排的连接电阻及接触器的接触电阻的结构,在确保不增加整体尺寸的前提下,增大了接触面的接触面积,从而降低接触电阻,进而减少发热量,有效地提高使用的安全系数,节约能源,延长其使用寿命。

本实用新型所采用的技术方案为:

一种降低电力柜铜排的连接电阻及接触器的接触电阻的结构,包括接触端子1,其特征在于:所述接触端子1上设有与导体接触的接触部2,在所述接触部2上均匀排列有多个V形槽3,所述V形槽3与导体的接合部相匹配。

作为本案的设计特点,本案关键点在于充分扩大接触部与导体连接的表面积,为些,本案设置均布V形槽,这样两者的连接处的接触面积就大为增加,从而实现减少发热量。

作为优选,所述V形槽的角度为α,其中,40°≤α≤50°。作为本案更优设计点,即要考虑接触面积的增加,同时还要考虑加工制造的便利性及经济性。设至在40°≤α≤50°之间,既考虑到接触面积的增加,又考虑到加工的便利性。

作为优选,所述V形槽的角度为45°或30°,在制造时,往往规定一个角度就好,不用再制作多套模具。

作为优选,所述V形槽3为采用模具或机械加工制作而成的V形槽。

本实用新型的有益效果在于:

本实用新型通过在铜母线及各种交直流接触器的触头上设置有多个V形槽,既能保证接触良好,又能增加接触面的接触面积,电流是电子在金属里面传导,通道空间越大,单位时间内通过的电流越多,即能降低接触电阻,从而使得发热量降低,有助于提高整体系统的安全系数,成本低,使用寿命长。此外,本实用新型的V形槽角度设置在一定的范围内,可兼顾性能和效益,批量加工生产,提高生产效益。

附图说明

图1为现有技术中铜排的立体结构示意图;

图2为现有技术中交直流接触器触头的立体结构示意图;

图3-6为本实用新型针对于图1改进的一实施例的立体结构示意图;

图7-8为针对图2改进的接触的结构示意图,其V形槽为弧形槽或者是拱桥形状的槽;

附图标号说明:接触端子1;接触部2;V形槽3。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中山佳一电子技术有限公司,未经中山佳一电子技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202021243383.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top