[实用新型]透镜加工装置及透镜阵列有效
| 申请号: | 202021234844.X | 申请日: | 2020-06-29 |
| 公开(公告)号: | CN212683438U | 公开(公告)日: | 2021-03-12 |
| 发明(设计)人: | 袁明峰;朱鹏程;凌步军;滕宇;赵有伟;孙月飞;冷志斌;冯高俊;吕金鹏 | 申请(专利权)人: | 江苏亚威艾欧斯激光科技有限公司 |
| 主分类号: | B24B13/00 | 分类号: | B24B13/00;B24B57/02;B24B27/033;G02B3/00 |
| 代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 林凡燕 |
| 地址: | 225600 江苏省苏州市中国(江苏)自由贸易试验区苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 透镜 加工 装置 阵列 | ||
本实用新型提供一种透镜加工装置及透镜阵列,所述透镜加工装置包括旋转加工轮,具有沿所述旋转加工轮的外侧壁间隔设置的若干透镜插槽,并且所述插槽沿与所述旋转加工轮的转动轴平行的方向延伸;旋转驱动单元,所述旋转驱动单元与所述旋转加工轮的转动轴连接;以及透镜研磨组件,远离所述旋转加工轮的外侧壁设置,其中,所述透镜研磨组件上设置有供研磨液通过的排水孔。利用本实用新型的透镜加工装置进行透镜研磨时,可以通过控制以使构成的透镜阵列的若干柱状透镜的凸出射面的曲面整体上保持相同的曲率半径,以使每个柱状透镜的凸出射面的曲面的加工误差最小化。
技术领域
本实用新型涉及透镜加工技术领域,特别是涉及一种透镜加工装置及透镜阵列。
背景技术
激光退火处理是指利用线状的激光束照射基板上的非晶硅膜以使非晶硅膜结晶化,从而将非晶硅膜转化为多晶硅膜的过程。为了通过激光退火处理工艺总成具有良好结晶度的多晶硅膜,线状激光束的能量强度分布必须均匀并且形状不能变形。
现有的激光退火处理中,激光束通过均质器处理后虽然具有均匀的能量分布,但是没有足够的适于激光退火的能量强度。因此,需要利用透镜阵列(由若干具有凸出射面的柱状透镜组成)将该激光束扩展为更多的扩展激光束,然后利用一个聚光透镜将扩展激光束聚焦在激光束光轴上并组合成一个激光束,通过该处理,可以将激光束的能量强度增加到足以进行激光退火处理所需的水平。
为了能够使扩展激光束进行正常的聚焦合成,需要保证透镜阵列的每个柱状透镜的凸出射面的曲面整体上保持相同的曲率半径,并且还需保持其对称性。这就要求必须对柱状透镜的凸出射面的曲面进行精细加工,并且在透镜的加工过程中,需要很好的控制好柱状透镜的研磨设备,以使每个柱状透镜的凸出射面的曲面的加工误差最小化。
然而,现有的透镜加工设备中,一般是分别处理多个柱状透镜的每个凸出射面的曲面,曲面加工时产生的加工误差因柱状透镜的不同而不同。当利用上述的柱状透镜组成透镜阵列时,即使通过聚光透镜的聚焦出现了问题,也很难判断和追踪是多个柱状透镜的某个柱状透镜的加工误差超过误差范围,很难通过控制透镜研磨设备的作业使的每个柱状透镜的凸出射面的曲面的加工误差最小化。
实用新型内容
鉴于以上所述现有技术的缺点,本实用新型的目的在于提供一种透镜加工装置及透镜阵列,用于解决现有技术中的透镜加工装置不能同时批量处理多个柱状透镜从而使透镜的误差存在差异的技术问题。
为实现上述目的及其他相关目的,本实用新型提供一种透镜加工装置,所述透镜加工装置包括:
旋转加工轮,具有沿所述旋转加工轮的外侧壁间隔设置的若干透镜插槽,并且所述插槽沿与所述旋转加工轮的转动轴平行的方向延伸;
旋转驱动单元,所述旋转驱动单元与所述旋转加工轮的转动轴连接;以及
透镜研磨组件,远离所述旋转加工轮的外侧壁设置,其中,所述透镜研磨组件上设置有供研磨液通过的排水孔。
在一可选实施例中,所述透镜加工装置还包括研磨液供给系统,所述研磨液供给系统与所述排水孔连接。
在一可选实施例中,若干所述透镜插槽沿所述旋转加工轮的外侧壁均匀设置,且所述透镜插槽的深度方向沿所述旋转加工轮的径向设置。
在一可选实施例中,所述透镜插槽的内壁上设置有弹性加压部。
在一可选实施例中,所述旋转加工轮的形状包括圆柱或多棱柱。
在一可选实施例中,所述透镜研磨组件具有与透镜所需曲面的相同曲率半径的弧形研磨面。
在一可选实施例中,所述透镜加工装置还包括用于使所述旋转加工轮沿与所述旋转加工轮的转动轴平行的方向进行线性往复运动的直线驱动单元。
在一可选实施例中,所述旋转驱动单元包括旋转马达,或者旋转马达、转动轮和皮带的组合构件。
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