[实用新型]一种用于陶瓷基片的清洁装置

权利要求书

1.一种用于陶瓷基片的清洁装置，包括箱体(1)，其特征在于：所述箱体(1)按从左到右依次设置有进片板(2)、清洗区(3)、取片板(4)，所述进片板(2)设置为凹形状，所述箱体(1)顶部一侧设有与进片板(2)凹口处对应的进片口(5)，所述箱体(1)顶部设有推板(6)，所述推板(6)设置为冖字型，所述推板(6)底部中间固定设有推柱(7)，所述推柱(7)通过进片口(5)插接在进片板(2)凹口处，所述清洗区(3)顶部固定设有齿轮箱(8)，所述清洗区(3)底部设有两列清洁滚筒(9)，两列所述清洁滚筒(9)中间处与进片板(2)凹口处对应，每个所述清洁滚筒(9)中间均设有滚柱(10)，所述滚柱(10)贯穿清洁滚筒(9)底部与箱体(1)底部轴承连接，所述滚柱(10)贯穿清洁滚筒(9)顶部与齿轮箱(8)底部轴承连接并延伸到齿轮箱(8)内腔，每个所述滚柱(10)顶端均固定设有第一齿轮(11)，每列所述清洁滚筒(9)顶部的第一齿轮(11)通过链条连接，两列任意一行所述滚柱(10)的顶端均固定设有第二齿轮(12)，两个所述第二齿轮(12)啮合，所述箱体(1)顶部设有电机(13)，所述电机(13)的输出端贯穿箱体(1)顶部延伸至齿轮箱(8)内腔且与箱体(1)贯穿处设有滚珠轴承，所述电机(13)输出端底部与其中一个第二齿轮(12)所在的滚柱(10)顶端固定连接，所述取片板(4)设置为凹形状，所述箱体(1)顶部另一侧设有与取片板(4)凹口处对应的取片口(14)，所述箱体(1)顶部设有提板(15)，所述提板(15)设置一字型，所述提板(15)底部中间固定设有提柱(16)，所述提柱(16)设置为L形，所述提柱(16)通过取片口(14)插接在取片板(4)凹口处，所述取片板(4)凹口处与两列清洁滚筒(9)中间处对应。

2.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷基片的清洁装置，其特征在于：所述清洗区(3)对应的箱体(1)顶部设有进液管(17)，所述进液管(17)与清洗区(3)连通。

3.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷基片的清洁装置，其特征在于：所述清洗区(3)对应的箱体(1)前侧底部设有出液管(18)，所述出液管(18)与清洗区(3)连通。

4.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷基片的清洁装置，其特征在于：每个所述清洁滚筒(9)上均固定设有毛刷(19)。

5.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷基片的清洁装置，其特征在于：所述推板(6)一侧中间固定设有第一把手(20)。

6.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷基片的清洁装置，其特征在于：所述提板(15)顶部中间固定设有第二把手(21)。

7.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷基片的清洁装置，其特征在于：所述提柱(16)底部设有V字形凹槽(22)，所述V字形凹槽(22)一端设置为开口且开口与两列清洁滚筒(9)中间处对应。

8.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷基片的清洁装置，其特征在于：所述箱体(1)底部四角固定设有支撑腿(23)。