[实用新型]一种高纯度的电子级一氧化氮生产装置

说明书

本实用新型公开一种高纯度的电子级一氧化氮生产装置，包括硫酸储槽，所述硫酸储槽通过硫酸管路分别与结构相同的第一反应釜和第二反应釜并联，而在硫酸管路上还设置有硫酸计量泵，所述第一反应釜内设置有通过搅拌电机驱动的搅拌叶片，并且在第一反应釜上还设置有安全阀和压力表，所述第一反应釜和第二反应釜的出口端还分别通过反应釜管路与脱水吸收塔的入口端相连，而脱水吸收塔的出口端则通过吸收塔管路与低温动态吸附纯化装置的入口相连，低温动态吸附纯化装置的出口端通过管路依次与氯化钙脱水槽、硅胶脱水槽相连，而硅胶脱水槽的出口端则通过管路分别与两个结构相同的成品瓶组相连，所述的成品瓶组包括成品气钢瓶和成品气铝合金瓶。

技术领域

本实用新型涉及气体处理领域，特别是一种高纯度的电子级一氧化氮生产装置。

背景技术

一氧化氮是一种广泛应用于医药、电子、科研、环保、精细化工等领域的特种气体，在电子半导体行业是一种十分重要的气体，其主要用于硅的氧化膜形成、氧化、化学气相淀积。

随着电子半导体工业快速发展，尤其是近些年电子半导体生产技术的提高和制程、工艺的改进，集成电路差不多每三年就更新一代；大规模集成电路和计算机的大量生产和使用，光纤通信、数字化通信、卫星通信技术的兴起，使电子半导体工业成为推动科技发展的高新技术产业。

电子半导体工业快速发展也给气体行业带来了前所未有的发展。电子半导体生产技术的提高和制程、工艺的改进对一氧化氮气体纯度的要求也大大的提升，需达到了99.999%纯度的电子级一氧化氮才能满足工艺需求，而99.999%纯度的电子级一氧化氮其杂质指标中，各项杂质的参数需要满足以下要求：小于N₂O/1ppm ,NO₂/1PPM ,CO₂/1PPM ,H₂O/0.5ppm，N₂/3ppm，O₂/0.5ppm。而传统的一氧化氮生产方法和设备所生产的一氧化氮则无法满足当前电子半导体发展的需求。因此现在需要一种能够解决上述问题的方法或装置。

实用新型内容

本实用新型是为了解决现有技术所存在的上述不足，提出一种结构简单，设计巧，可经过多级处理后获得高纯度一氧化氮气体的装置。

本实用新型的技术解决方案是：一种高纯度的电子级一氧化氮生产装置，其特征在于：所述的装置包括硫酸储槽1，所述硫酸储槽1通过硫酸管路分别与结构相同的第一反应釜2和第二反应釜3并联，而在硫酸管路上还设置有硫酸计量泵4，所述第一反应釜2内设置有通过搅拌电机驱动的搅拌叶片，并且在第一反应釜2上还设置有安全阀和压力表，所述第一反应釜2和第二反应釜3的出口端还分别通过反应釜管路与脱水吸收塔5的入口端相连，而脱水吸收塔5的出口端则通过吸收塔管路与低温动态吸附纯化装置6的入口相连，低温动态吸附纯化装置6的出口端通过管路依次与氯化钙脱水槽7、硅胶脱水槽8相连，而硅胶脱水槽8的出口端则通过管路分别与两个结构相同的成品瓶组相连，所述的成品瓶组包括成品气钢瓶9和成品气铝合金瓶10，所述的成品气铝合金瓶10置于装有液氮的液氮浴槽11中，同时成品瓶组还包括能够检测成品气钢瓶9和成品气铝合金瓶10中压力的压力表12，

所述的装置还包括与第一反应釜2、第二反应釜3、脱水吸收塔5、低温动态吸附纯化装置6、氯化钙脱水槽7、硅胶脱水槽8、成品气钢瓶9和成品气铝合金瓶10相连通的排空真空管路，所述排空真空管路的末端并联有带有排空管路13和带有真空泵14的真空管路15，

所述的硫酸管路，反应釜管路，吸收塔管路，低温动态吸附纯化装置6与氯化钙脱水槽7、硅胶脱水槽8之间的管路，硅胶脱水槽8与成品瓶组之间的管路，排空真空管路与各装置之间的管路，排空管路13和真空管路15上均设置有气动阀，