[实用新型]一种控制系统

说明书

本申请涉及一种控制系统，属于工业设备技术领域，所述系统包括：预抽真空室、隔离阀、高真空计、高精度真空计、分子泵、气动阀、粗抽阀、前级压力计、干泵和截止阀；隔离阀连接分子泵和预抽真空室，用于隔离分子泵和预抽真空室；高真空计和高精度真空计容纳在预抽真空室中；气动阀与预抽真空室连通，用于控制向预抽真空室中充入气体；预抽真空室通过粗抽阀与系统泵连接；分子泵通过截止阀连接前级压力计和干泵。解决了现有技术中使用冷泵的情况下可能出现抖动，需要定期维护，成本高的问题；达到了可以减少抖动，降低作业人员的维护成本的效果。

技术领域

本申请涉及一种控制系统，属于工业设备技术领域。

背景技术

采用CENTURA5200的晶圆承载平台做PVD 的工艺时，需要在预抽真空室（LOADLOCK）保持高真空度，普通的方式是采用干泵，真空度可以达到10^-3Torr;比如采用干泵+冷泵的方式，真空度可以达到10^-6Torr，但是冷泵面临着震动较大，需要配备压缩机及定期维护的问题。

实用新型内容

本申请提供了一种控制系统，可以解决现有方案中的问题。本申请提供如下技术方案：

第一方面，提供了一种控制系统，所述系统包括：

预抽真空室、隔离阀、高真空计、高精度真空计、分子泵、气动阀、粗抽阀、前级压力计、干泵和截止阀；

所述隔离阀连接所述分子泵和所述预抽真空室，用于隔离所述分子泵和所述预抽真空室；

所述所述高真空计和所述高精度真空计容纳在所述预抽真空室中；

所述气动阀与所述预抽真空室连通，用于控制向所述预抽真空室中充入气体；

所述预抽真空室通过所述粗抽阀与系统泵连接；

所述分子泵通过所述截止阀连接所述前级压力计和所述干泵。

可选的，所述预抽真空室有两个，每个预抽真空室对应于一组隔离阀、高真空计、高精度真空计、分子泵、气动阀、粗抽阀、前级压力计、干泵和截止阀。

可选的，所述系统还包括可编程逻辑控制器PLC，所述PLC控制器与所述隔离阀、所述高真空计、所述高精度真空计、所述分子泵、所述气动阀、所述粗抽阀、所述前级压力计、所述干泵和所述截止阀电性连接。

可选的，所述高精度真空计为MKS Baratron 真空计。

第二方面，提供了一种控制方法，所述方法包括：

在初始状态下，开启所述截止阀并启动所述分子泵；所述初始状态下所述气动阀和所述粗抽阀均关闭，所述预抽真空室为大气状态；

在机台上料完毕后，开启所述粗抽阀，通过系统泵将所述预抽真空室抽至第一预设真空后关闭所述粗抽阀；

开启所述隔离阀，通过所述分子泵将所述预抽真空室抽至第二预设真空，并执行工艺传输；

在工艺完成后，关闭所述高真空计后关闭所述隔离阀，开启所述气动阀后给所述预抽真空室充入气体；

在所述预抽真空室达到大气状态时，关闭所述气动阀，并对所述预抽真空室进行下料。

可选的，所述方法还包括：

在通过所述系统泵将所述预抽真空室抽至所述第一预设真空时，通过所述高精度真空计来测量真空状态。

可选的，所述方法还包括：

在通过所述分子泵将所述预抽真空室抽至所述第二预设真空时，通过所述高真空计来测量真空状态。

可选的，所述方法还包括：