[实用新型]抛光介质制备装置和机械化学抛光设备

权利要求书

1.一种抛光介质制备装置，其特征在于，所述抛光介质制备装置包括用于储存抛光液的储液罐(1)、用于向所述储液罐(1)内释放预定压力气体的气压泵(2)、第一管道(3)和第二管道(4)；所述第一管道(3)的一端与所述气压泵(2)的出气口连接，另一端从所述储液罐(1)的进液口延伸至所述储液罐(1)的底部；所述第二管道(4)从所述储液罐(1)的底部延伸至所述储液罐(1)外；所述第一管道(3)延伸至所述储液罐(1)的底部的一端设置有螺旋增压结构(5)，所述螺旋增压结构(5)用于促进从所述第一管道(3)释放的气体与所述储液罐(1)内的抛光液充分混合，以形成抛光介质；所述抛光介质制备装置还包括第三管道(6)和设置储气罐(7)，所述第三管道(6)的一端与所述气压泵(2)的进气口连接，另一端与所述储气罐(7)的出气口连接，所述储气罐(7)上设置有用于检测所述储气罐(7)压力的压力表(14)。

2.根据权利要求1所述的抛光介质制备装置，其特征在于，所述第二管道(4)上设置有用于控制所述第二管道(4)中流体的流量的阀门(8)。

3.根据权利要求1所述的抛光介质制备装置，其特征在于，所述螺旋增压结构(5)包括本体(51)和设置在所述本体(51)的侧壁上的通孔(52)，所述本体(51)内沿着所述本体(51)的轴线方向设置有螺旋通道(53)，所述通孔(52)与所述螺旋通道(53)连通；所述螺旋通道(53)至少满足以下条件之一：

a所述螺旋通道(53)的螺距沿所述本体(51)的轴线方向递减；

b所述螺旋通道(53)的截面直径沿所述本体(51)的轴线方向递减；

c所述螺旋通道(53)的直径沿所述本体(51)的轴线方向递减。

4.根据权利要求1所述的抛光介质制备装置，其特征在于，所述螺旋增压结构(5)包括本体(51)和设置在所述本体(51)的侧壁上的通孔(52)，所述本体(51)的内壁设置有沿所述本体(51)的轴向分布的螺旋通道(53)，所述本体(51)内沿所述本体(51)的轴向设置有中心柱(54)，所述中心柱(54)的侧壁紧贴于所述螺旋通道(53)或所述中心柱(54)的侧壁与所述中心柱(54)的侧壁之间设有一定空隙；所述通孔(52)与所述螺旋通道(53)连通；

所述螺旋通道(53)至少满足以下条件之一：

a所述螺旋通道(53)的螺距沿所述本体(51)的轴线方向递减；

b所述螺旋通道(53)的截面直径沿所述本体(51)的轴线方向递减；

c所述螺旋通道(53)的直径沿所述本体(51)的轴线方向递减。

5.一种机械化学抛光设备，其特征在于，所述机械化学抛光设备包括机械化学加工室以及权利要求1-4中任意一项所述的抛光介质制备装置；

所述机械化学加工室还包括支架(9)、设置在所述支架(9)上的抛光盘(10)、设置在所述抛光盘(10)下方并用于驱动所述抛光盘(10)转动的电机(11)、粘贴于所述抛光盘(10)上表面的抛光垫(12)、位于所述抛光盘(10)上方的压力砝码(13)以及用于驱动所述压力砝码(13)转动的驱动机构；所述抛光介质能够经过第二管道(4)流至所述抛光垫(12)的上表面。