[实用新型]一种水制备装置及系统

权利要求书

1.一种水制备装置，包括第一容器（1）、第二容器（2）、变径段（3）和过流段（4），所述第一容器（1）、第二容器（2）分别通过变径段（3）连接至过流段（4）的上端、下端，第一容器（1）上设置有第一盖体（5），第二容器（2）上设置有第二盖体（6），所述水制备装置能够翻转以使水体在第一容器（1）和第二容器（2）之间流动，其特征在于，所述过流段（4）内设置有第二辐射部（9），所述第二辐射部（9）用于向水体提供电磁波辐射；所述过流段（4）外部或内部设置有第一辐射部，所述第一辐射部用于向水体提供磁场。

2.根据权利要求1所述的一种水制备装置，其特征在于，所述第一盖体（5）上设置有电箱（7），所述电箱（7）的底部连接有安装杆（8），所述安装杆（8）的下端延伸至水制备装置内部，所述第二辐射部（9）安装在所述安装杆（8）上，第二辐射部（9）与电箱（7）电连接。

3.根据权利要求2所述的一种水制备装置，其特征在于，所述安装杆（8）内部设置有走线通道（81），安装杆（8）上设置有走线孔（82），所述第二辐射部（9）包括套设在安装杆（8）外部壳体（94），所述壳体（94）内设置有介电材料层（93）、以及安装于安装杆（8）外壁上的光源（92），所述电箱（7）中的导线依次通过走线通道（81）、走线孔（82）与光源（92）电连接，所述介电材料层（93）在所述光源（92）的照射下产生电磁波以辐射所述水制备装置中的水体。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的一种水制备装置，其特征在于，所述第二辐射部（9）的外壁上设置有螺旋叶片（91）。

5.根据权利要求1所述的一种水制备装置，其特征在于，所述第一辐射部包括磁体（11），所述磁体（11）沿所述过流段（4）的周向均匀分布。

6.根据权利要求5所述的一种水制备装置，其特征在于，所述第一辐射部包括安装于过流段（4）的内壁上的内筒（10），所述第二辐射部（9）位于内筒（10）的内部，所述内筒（10）的内壁上设置有安装槽，所述磁体（11）设置在安装槽内。

7.根据权利要求1所述的一种水制备装置，其特征在于，所述变径段（3）的内壁上设置有凹槽（31），所述凹槽（31）沿变径段（3）的内壁呈螺旋状分布。

8.根据权利要求7所述的一种水制备装置，其特征在于，所述凹槽（31）为半圆槽。

9.根据权利要求1所述的一种水制备装置，其特征在于，所述变径段（3）的长度为过流段（4）的长度1至4倍。

10.一种水制备系统，其特征在于，包括权利要求1~9中任一项所述的水制备装置，还包括关于水制备装置对称设置的两个底座（14），所述底座（14）上设置有弧形槽，所述弧形槽内设置有驱动轮（13），所述驱动轮（13）上设置有驱动装置（15），在驱动装置（15）的驱动下，所述驱动轮（13）能够在弧形槽中转动，所述驱动轮（13）的侧壁上设置有转轴（12），所述转轴（12）连接至第一容器（1）或第二容器（2）的外壁。