[实用新型]UT掩模版专用打磨装置有效

专利信息
申请号: 202021070576.2 申请日: 2020-06-11
公开(公告)号: CN213289738U 公开(公告)日: 2021-05-28
发明(设计)人: 郁镇宇 申请(专利权)人: 无锡灿晶微电子科技有限公司
主分类号: B24B19/00 分类号: B24B19/00;B24B41/06;B24B47/22;B24B47/20;B24B41/04
代理公司: 南京禾易知识产权代理有限公司 32320 代理人: 翁亚娜
地址: 214013 江苏省无*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: ut 模版 专用 打磨 装置
【说明书】:

实用新型公开了一种UT掩模版专用打磨装置,涉及电表显示屏技术领域,为解决对UT掩模版的边角进行打磨时,通常需要对UT掩模版两侧进行垫高,从而使边角可以与打磨设备相接触进行打磨,在打磨过程中产生的振动会导致UT掩模版松动,使打磨位置发生偏差,打磨质量不佳的问题。所述工作台的下方设置有步进电机,所述步进电机输出端的上方设置有转轴,所述转轴的上方设置有打磨台,所述转轴的外部设置有套环,且套环与转轴通过螺钉连接,所述套环的上方设置有第二电动伸缩杆,第二电动伸缩杆设置有两个,且第二电动伸缩杆的一端与套环通过螺钉连接,所述第二电动伸缩杆的另一端与打磨台转动连接,且两个第二电动伸缩杆关于转轴对称设置。

技术领域

本实用新型涉及电表显示屏技术领域,具体为UT掩模版专用打磨装置。

背景技术

掩模版在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如IC、FPD、 PCB、MEMS等。是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构,再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版。

目前,在使用打磨装置对UT掩模版进行打磨时,大都都只能对 UT掩模版的表面进行打磨,在对UT掩模版的边角进行打磨时,通常需要对UT掩模版两侧进行垫高,从而使边角可以与打磨设备相接触进行打磨,在打磨过程中产生的振动会导致UT掩模版松动,使打磨位置发生偏差,打磨质量不佳,不能满足使用需求。因此市场上急需 UT掩模版专用打磨装置来解决这人些问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供UT掩模版专用打磨装置,以解决上述背景技术中提出对UT掩模版的边角进行打磨时,通常需要对UT掩模版两侧进行垫高,从而使边角可以与打磨设备相接触进行打磨,在打磨过程中产生的振动会导致UT掩模版松动,使打磨位置发生偏差,打磨质量不佳,不能满足使用需求的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:UT掩模版专用打磨装置,包括工作台,所述工作台的下方设置有步进电机,且步进电机与工作台通过螺钉连接,所述步进电机输出端的上方设置有转轴,且转轴的一端贯穿工作台并延伸至工作台的上方,所述转轴的上方设置有打磨台,且打磨台与转轴转动连接,所述转轴的外部设置有套环,且套环与转轴通过螺钉连接,所述套环的上方设置有第二电动伸缩杆,第二电动伸缩杆设置有两个,且第二电动伸缩杆的一端与套环通过螺钉连接,所述第二电动伸缩杆的另一端与打磨台转动连接,且两个第二电动伸缩杆关于转轴对称设置。

优选的,所述工作台的上方设置有防护架,且防护架与工作台通过螺钉连接,所述防护架的内侧设置有升降槽,升降槽设置有两个。

优选的,所述防护架的内部设置有升降块,且升降块的两端均延伸至升降槽的内部,所述升降块与防护架滑动连接,所述升降块与防护架之间设置有第一电动伸缩杆,且第一电动伸缩杆的两端分别与升降块和防护架通过螺钉连接。

优选的,所述升降块的外部设置有电机仓,所述电机仓的内部设置有限位孔,所述升降块的两侧均设置有凸块,且凸块与升降块设置为一体结构,所述凸块的一端延伸至限位孔的内部,且凸块与电机仓滑动连接,所述限位孔的下方设置有螺纹孔,所述升降块的下方设置有第一电机,且第一电机与升降块通过螺钉连接,所述第一电机输出端的一侧设置有螺纹杆,且螺纹杆的一端贯穿螺纹孔并延伸至升降块的内部,所述螺纹孔与电机仓螺纹连接,且螺纹孔与升降块转动连接。

优选的,所述打磨台的上端设置有置物槽,所述打磨台的上方设置有UT掩模版,且UT掩模版的一端延伸至置物槽的内部,所述UT 掩模版的上方设置有夹持块,且夹持块与UT掩模版相贴合,所述打磨台的外部设置有锁紧栓,锁紧栓设置有四个,且锁紧栓的一端贯穿打磨台并与夹持块相贴合。

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