[实用新型]吸波结构、器件有效

专利信息
申请号: 202021013194.6 申请日: 2020-06-03
公开(公告)号: CN213026518U 公开(公告)日: 2021-04-20
发明(设计)人: 李勃;赵乾;李泽颜;朱朋飞;王浩;王荣 申请(专利权)人: 清华大学深圳国际研究生院
主分类号: H01Q17/00 分类号: H01Q17/00;H05K9/00
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 代理人: 黄广龙
地址: 518000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 结构 器件
【权利要求书】:

1.吸波结构,其特征在于,包括:

第一介质层,开设有通孔;

第二介质层,设置于所述第一介质层一端;

液晶分子,设置于所述第二介质层内部,用于吸收电磁波;

电极组件,设置于所述第二介质层两端,用于根据电压大小调节所述液晶分子的取向。

2.根据权利要求1所述的吸波结构,其特征在于,还包括:

第三介质层,设置于所述第二介质层远离所述第一介质层的一端,用于隔绝电磁波透射。

3.根据权利要求2所述的吸波结构,其特征在于,所述电极组件包括:

上极板,设置于所述第二介质层和所述第一介质层之间;

下极板,设置于所述第二介质层和所述第三介质层之间。

4.根据权利要求3所述的吸波结构,其特征在于,所述上极板和所述下极板之间的间距为0.5-1mm。

5.根据权利要求1所述的吸波结构,其特征在于,所述通孔的形状为十字架形。

6.根据权利要求2所述的吸波结构,其特征在于,所述第三介质层为金属介质层。

7.根据权利要求3所述的吸波结构,其特征在于,所述上极板和所述下极板之间接入外加电源,所述外加电源的电压大小为0.1-50V。

8.根据权利要求1所述的吸波结构,其特征在于,所述第一介质层的厚度为1-2mm。

9.一种吸波器件,其特征在于,包括:如权利要求1-8任一项所述的吸波结构,所述吸波结构设置若干个,且若干所述吸波结构呈阵列排布。

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