[实用新型]单面抛光机水冷式定盘

说明书

本实用新型涉及机械技术领域。单面抛光机水冷式定盘，包括一定盘本体，定盘本体包括上下设置的上盘体以及下盘体，下盘体上设有开口向上的导流槽，上盘体与下盘体相连时，上盘体覆盖导流槽的上端槽口，且围成用于输送冷却水的迂回水冷通道；迂回水冷通道设有至少两个，至少两个迂回水冷通道周向排布；每个迂回水冷通道均设有独立的用于输入冷却水的进水口以及用于导出冷却水的出水口，进水口以及出水口位于下盘体；上盘体是不锈钢盘体；下盘体是一涂敷有特氟龙涂层的铸铁盘。便于实现抛光机定盘的水冷，使冷却水在定盘内均匀流动，从而使定盘的温度均匀，进而影响抛光布表面的温度；有效控制抛光布的温度，抛光布表面温度均匀。

技术领域

本实用新型涉及机械技术领域，具体是抛光机定盘。

背景技术

硅片的表面抛光是硅片加工中的关键工序，其加工精度直接影响IC芯片的性能、合格率等技术指标。影响硅片表面抛光加工精度的一个重要因素是温度。抛光过程中，随着压力和转速增加，硅片在抛光布上摩擦，抛光布温度会不断上升，如果温度分布不均匀，会影响硅片的质量。

如何实现抛光布的温控，影响的硅片的质量。

实用新型内容

针对现有技术存在的问题，本实用新型提供单面抛光机水冷式定盘，以解决以上至少一个技术问题。

为了达到上述目的，本实用新型提供了单面抛光机水冷式定盘，包括一定盘本体，其特征在于，所述定盘本体包括上下设置的上盘体以及下盘体，所述下盘体上设有开口向上的导流槽，所述上盘体与所述下盘体相连时，所述上盘体覆盖所述导流槽的上端槽口，且围成用于输送冷却水的迂回水冷通道；

所述迂回水冷通道设有至少两个，至少两个迂回水冷通道周向排布；

每个迂回水冷通道均设有独立的用于输入冷却水的进水口以及用于导出冷却水的出水口，所述进水口以及所述出水口位于所述下盘体；

所述上盘体是不锈钢盘体；

所述下盘体是一涂敷有特氟龙涂层的铸铁盘。

便于实现抛光机定盘的水冷，使冷却水在定盘内均匀流动，从而使定盘的温度均匀，进而影响抛光布表面的温度；有效控制抛光布的温度，抛光布表面温度均匀，能够改善抛光片的TTV(晶体总厚度偏差)水平。此结构简单，水流量均匀，温度均衡，稳定性强。

上盘体以及下盘体的材料组合，保证加工时没有颗粒污染硅片。

进一步优选的，所述迂回水冷通道设有两个；

两个迂回水冷通道呈中心对称结构设置。

便于保证水冷均匀性。

进一步优选的，所述迂回水冷通道包括从内至外S状导流的第一导流通道以及从外至内S状导流的第二导流通道；

所述第一导流通道与所述第二导流通道对接导通构成所述迂回水冷通道。

便于保证水冷效果。

进一步优选的，所述第一导流通道包括从内至外依次排布的弧形导流段，相邻的弧形导流段对接导通构成所述第一导流通道。

便于保证水冷均匀性。

进一步优选的，所述下盘体包括一开口向上的凹槽，所述凹槽内连接有可拆卸的阻流块；

所述导流槽通过所述凹槽与所述阻流块围成。

便于通过阻流块，实现导流方向的控制。

进一步优选的，所述下盘体上设有内外设置的内限位环以及外限位环，所述内限位环与所述外限位环之间设有至少三个径向从内至外排布的导流层；

每个导流层均包括两个相对设置的弧形导流块；