[实用新型]一种耐机洗哑面硅胶刻字膜

权利要求书

1.一种耐机洗哑面硅胶刻字膜，包括硅胶刻字膜层（1）、第一连接栅格网层（2）、第一热熔胶连接层（3）、硅胶连接支撑层（4）、刻字膜底膜层（7）、连接加固带（8），其特征在于：所述硅胶刻字膜层（1）的一侧连接于第一连接栅格网层（2），所述第一连接栅格网层（2）远离硅胶刻字膜层（1）的一侧连接于第一热熔胶连接层（3），所述第一热熔胶连接层（3）远离第一连接栅格网层（2）的一侧连接于硅胶连接支撑层（4），所述硅胶连接支撑层（4）远离第一热熔胶连接层（3）的一侧连接有第二热熔胶连接层（5），所述第二热熔胶连接层（5）远离硅胶连接支撑层（4）的一侧连接有第二连接栅格网层（6），所述第二连接栅格网层（6）远离第二热熔胶连接层（5）的一侧连接于刻字膜底膜层（7），所述连接加固带（8）连接于硅胶刻字膜层（1），所述连接加固带（8）连接于第一连接栅格网层（2），所述连接加固带（8）连接于第一热熔胶连接层（3），所述连接加固带（8）连接于硅胶连接支撑层（4），所述连接加固带（8）连接于第二热熔胶连接层（5），所述连接加固带（8）连接于第二连接栅格网层（6），所述连接加固带（8）连接于刻字膜底膜层（7），所述连接加固带（8）靠近硅胶刻字膜层（1）和刻字膜底膜层（7）的一侧连接有加固连接块（9），所述加固连接块（9）靠近硅胶刻字膜层（1）和刻字膜底膜层（7）的一侧连接有限位连接带（10），所述连接加固带（8）的一侧连接有第一限位连接块（11），所述连接加固带（8）远离第一限位连接块（11）的一侧连接有第二限位连接块（12）。

2.根据权利要求1所述的一种耐机洗哑面硅胶刻字膜，其特征在于：所述硅胶刻字膜层（1）的厚度与刻字膜底膜层（7）的厚度尺寸相匹配，所述硅胶刻字膜层（1）靠近第一连接栅格网层（2）的一侧均匀开设有球形凹槽。

3.根据权利要求1所述的一种耐机洗哑面硅胶刻字膜，其特征在于：所述第一热熔胶连接层（3）的材质和结构形状与第二热熔胶连接层（5）的材质和结构形状相匹配，所述第一热熔胶连接层（3）靠近第一连接栅格网层（2）的一侧和靠近第一热熔胶连接层（3）的一侧设置有凸起的球形块。

4.根据权利要求1所述的一种耐机洗哑面硅胶刻字膜，其特征在于：所述第一连接栅格网层（2）的材质和结构形状与第二连接栅格网层（6）的材质和结构形状相匹配，所述第一连接栅格网层（2）上均匀开设有孔。

5.根据权利要求1所述的一种耐机洗哑面硅胶刻字膜，其特征在于：所述硅胶连接支撑层（4）与第一热熔胶连接层（3）和第二热熔胶连接层（5）之间涂刷有粘黏剂，所述硅胶连接支撑层（4）上均匀开设有球形凹槽。

6.根据权利要求1所述的一种耐机洗哑面硅胶刻字膜，其特征在于：所述连接加固带（8）均匀等距布设，所述第一限位连接块（11）与第二限位连接块（12）关于连接加固带（8）对称。