[实用新型]一种离子束刻蚀旋转平台

权利要求书

1.一种离子束刻蚀旋转平台，其特征在于：该旋转平台分为上部结构、下部结构；上部结构、下部结构内均为腔体结构；上部结构的上端面设有基座；基座上端面设有静电卡盘，静电卡盘的下端面内设有若干条静电卡盘内冷却水道；上部结构与下部结构的轴向中心处设有与其内腔体相互贯通的旋转磁流体轴；上部结构的下端设有延伸部，该延伸部延伸至下部结构的腔体内；下部结构的腔体内高扭矩电机；高扭矩电机布置在下部结构的腔体内，高扭矩电机与旋转磁流体轴相连并驱动转动；旋转磁流体轴的顶端与静电卡盘相固定；上部结构的腔体内位于基座的下端面设有顶针装置。

2.根据权利要求1所述的离子束刻蚀旋转平台，其特征在于：所述的旋转磁流体轴的位于下部结构的部分设有若干个环形通槽；若干个所述的环形通槽布置在旋转磁流体轴的圆周面；环形通槽内设有通孔，旋转磁流体轴内开设有若干个与若干个环形通槽相通的独立通道；该独立通道包括液体独立通道与气体独立通道；所述的基座内开设与顶针装置及磁流体轴相互连通的介质通道；

所述的上部结构面向下部结构的衔接面靠近旋转磁流体轴处设有高扭矩电机冷却水道，下部结构的腔体侧壁位于高扭矩电机定子部设有冷却水道。

3.根据权利要求2所述的离子束刻蚀旋转平台，其特征在于：所述的静电卡盘内的冷却水道成螺旋环形布置，所述的基座内开设通管，静电卡盘上的冷却水道与基座内通管相连通；基座内通管还与旋转磁流体轴内的独立通道相连。

4.根据权利要求2所述的离子束刻蚀旋转平台，其特征在于：所述的下部结构的底端设有冷却液出入接口，空气出入接口，旋转磁流体轴的底部侧壁设有氦气出入接口；冷却液出入接口，空气出入接口及氦气出入接口分别与环形通槽相连通。

5.根据权利要求4所述的离子束刻蚀旋转平台，其特征在于：所述的冷却液出入接口与上部结构、下部结构内的冷却水道相互连通；冷却水道用于冷却高扭矩电机；

所述的空气出入接口通过旋转磁流体轴内的气体独立通道相连通，气体独立通道与顶针装置相互连通；空气出入接口将气体通入顶针装置内，用于作动顶针装置运作；

冷却液出入接口通过旋转磁流体轴内的液体独立通道相连通，液体独立通道与静电卡盘的冷却水道相互连通，冷却液出入接口将冷却液体通入静电卡盘内的冷却水道内，用于静电卡盘降温；

所述的氦气出入接口通过旋转磁流体轴内的气体独立通道相连通，气体独立通道相连通至静电卡盘，用于为静电卡盘上的晶圆冷却。

6.根据权利要求1所述的离子束刻蚀旋转平台，其特征在于：所述的旋转磁流体轴的底部侧壁与高压电电刷相连，高压电电刷通过导线与外部电源相连，高压电电刷为静电卡盘静电吸附传递电力。