[实用新型]偶联剂蒸发装置及气相沉积系统

说明书

本实用新型实施例公开一种偶联剂蒸发装置及气相沉积系统，涉及气相沉积技术领域，用于对工件进行气相沉积操作。其中，偶联剂蒸发装置包括：多个偶联剂容纳部；支撑部，具有至少一个定位件，多个所述偶联剂容纳部等间距设置于所述支撑部的一侧，所述支撑部通过所述定位件固定在沉积室内壁上。本实用新型公开实施例通过在沉积室内壁上等间距设置多个用于蒸发偶联剂的偶联剂容纳部，可有效改善化学气相沉积过程中工件表面沉积的偶联剂的均匀度，进而提高气相沉积后的工件的质量。

技术领域

本实用新型涉及化学气相沉积技术领域，具体而言，涉及一种偶联剂蒸发装置及气相沉积系统。

背景技术

化学气相沉积技术(Chemical Vapour Deposition，CVD)是利用气相中发生的化学过程，在工件表面形成功能性或装饰性的金属、非金属或化合物涂层。气相沉积技术应用于机械和仪表零件、刀具和模具等工件的表面强化，有效改善了工件的服役性能及寿命。

相关技术中，偶联剂蒸发位置相对于工件位置的设计，影响偶联剂在工件表面分布的均匀程度，限制了工件质量的提高。

实用新型内容

有鉴于此,本实用新型实施例的目的在于解决上述现有技术中存在的问题，提供一种偶联剂蒸发装置及气相沉积系统，使偶联剂能够均匀分布于工件表面。

根据本实用新型实施例的第一方面，提供一种偶联剂蒸发装置，设置于沉积室内壁上，蒸发偶联剂，对沉积室内的工件表面均匀地进行气相沉积操作。

本实用新型实施例的第一方面通过如下方案实现：一种偶联剂蒸发装置，包括：多个偶联剂容纳部；支撑部，具有至少一个定位件，多个所述偶联剂容纳部等间距设置于所述支撑部的一侧，所述支撑部通过所述定位件固定在沉积室内壁上。

优选的是，多个偶联剂容纳部包括壳体以及至少一个设置于壳体的通孔，壳体具有与通孔连通的容纳空间，容纳空间填充有偶联剂吸附件。

上述任一方案中优选的是，多个偶联剂容纳部与支撑部一体成型。

上述任一方案中优选的是，多个偶联剂容纳部与支撑部可拆卸连接。

上述任一方案中优选的是，多个偶联剂容纳部设置有加热偶联剂的加热件。

上述任一方案中优选的是，通孔包括偶联剂蒸发孔和偶联剂加注孔，偶联剂蒸发孔和偶联剂加注孔为同一通孔。

上述任一方案中优选的是，通孔包括偶联剂蒸发孔和偶联剂加注孔，偶联剂蒸发孔和偶联剂加注孔为不同通孔。

上述任一方案中优选的是，在偶联剂加注孔处设置有与偶联剂加注孔匹配的密封塞。

上述任一方案中优选的是，定位件设置有定位孔，支撑部通过定位孔与螺栓配合可拆卸连接在沉积室内壁上。

上述任一方案中优选的是，偶联剂吸附件包括海绵、绒、布条中的一种或者多种。

根据本实用新型实施例的第二方面，提供一种气相沉积系统，该气相沉积系统设置有上述第一方面及任一方案中所涉及的偶联剂蒸发装置，以使工件表面均匀沉积偶联剂，改善工件质量。

本实用新型实施例的第二方面通过如下方案实现：一种气相沉积系统，包括沉积室，在沉积室内设置有转轴，以及固定工件的旋转载盘，旋转载盘固定在转轴上，沉积室内壁上设置有至少一个如上述第一方面和任意一优选方案所涉及的偶联剂蒸发装置，旋转载盘带动工件转动，配合偶联剂蒸发装置对工件进行气相沉积。

优选的是，支撑部的长度与沉积室内壁高度相等。

上述任一方案中优选的是，支撑部的长度与工件的高度相等。

上述任一方案中优选的是，每一偶联剂容纳部与工件之间的最短距离相等。