[实用新型]一种单晶坩埚喷涂药液的辅助工具

说明书

本实用新型公开了一种单晶坩埚喷涂药液的辅助工具，包括用于放入单晶坩埚内并抵住单晶坩埚的内壁的石英圆盘，石英圆盘的上端面设有若干个高度均为3cm的、用于挂在单晶坩埚的开口外沿处以防止石英圆盘下滑的挂钩，石英圆盘的上端面还设有便于提起石英圆盘的把手。将挂钩挂在单晶坩埚开口的开口外沿处，可防止石英圆盘下滑，同时保证单晶坩埚上未被遮挡的内壁高度为3cm，从而保证喷涂高度符合要求。相比于现有技术中采用金属材质的遮挡工具，本实用新型采用与单晶坩埚相同材质的石英圆盘，即不会与喷涂的药液发生化学反应，也不会与单晶坩埚发生刮擦导致金属污染，因此可保证单晶坩埚的纯度不受影响，提升单晶坩埚的品质。

技术领域

本实用新型涉及坩埚制造技术领域，更具体地说，涉及一种单晶坩埚喷涂药液的辅助工具。

背景技术

单晶坩埚是由高纯度结晶砂电弧熔融制得。根据市场需求部分单晶坩埚需在上口位置喷涂药液，但随着市场的日益成熟，单晶坩埚的成本是影响公司盈利的重要一环，同时客户对单晶坩埚的品质要求也越来越严格，其纯度要求是重中之重。

在单晶坩埚的上口位置喷涂药液时，需要使用工具挡住单晶坩埚的下半部不需要喷涂的区域，以喷涂单晶坩埚的上口位置，但是在这一过程中，遮挡工具会与药液发生化学反应从而降低坩埚纯度，影响产品品质；遮挡工具易与高纯度的石英砂发生刮擦从而导致金属污染，影响制得的单晶坩埚纯度。

因此，如何解决喷涂药液的过程中影响单晶坩埚产品品质的问题，是目前本领域技术人员亟待解决的问题。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的目的是提供一种单晶坩埚喷涂药液的辅助工具，确保不会与喷涂的药液产生化学反应而影响单晶石英坩埚，避免影响单晶坩埚的品质。

为了实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种单晶坩埚喷涂药液的辅助工具，包括用于放入单晶坩埚内并抵住单晶坩埚的内壁的石英圆盘，所述石英圆盘的上端面设有若干个高度均为 3cm、并用于挂在单晶坩埚的开口外沿处以防止所述石英圆盘下滑的挂钩，所述石英圆盘的上端面还设有便于提起所述石英圆盘的把手。

优选的，所述石英圆盘的上端面的沿其外周均匀分布有至少3个所述挂钩。

优选的，所述石英圆盘的上端面的外周均匀分布有6个所述挂钩。

优选的，所述挂钩为石英挂钩，所述石英挂钩与所述石英圆盘为一体结构。

优选的，所述挂钩包括连接于所述石英圆盘的连接部以及用于挂在单晶坩埚上的挂靠部，当所述挂靠部挂在单晶坩埚上时，所述连接部与所述单晶坩埚的内壁具有间隙。

优选的，所述连接部为垂直于所述石英圆盘的上端面的直线连接部，所述挂靠部为平行于所述石英圆盘的上端面的直线挂靠部，所述直线挂靠部沿所述石英圆盘的径向设置。

优选的，所述直线挂靠部的外端设有向下的弯折部。

本实用新型所提供的单晶坩埚喷涂药液的辅助工具，采用石英圆盘挡住单晶坩埚不需要喷涂的内壁，并在石英圆盘的上端面布置多个高度为3cm的挂钩，使用时，将挂钩挂在单晶坩埚开口的外沿处，可防止石英圆盘下滑，同时保证单晶坩埚上未被遮挡的内壁高度为3cm，从而保证喷涂高度符合要求。相比于现有技术中采用金属材质的遮挡工具，本实用新型采用与单晶坩埚相同材质的石英圆盘，即不会与喷涂的药液发生化学反应，也不会与单晶坩埚发生刮擦导致金属污染，因此可保证单晶坩埚的纯度不受影响，提升单晶坩埚的品质。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。