[实用新型]一种铜箔整形压平装置有效
| 申请号: | 202020841034.4 | 申请日: | 2020-05-19 |
| 公开(公告)号: | CN212494858U | 公开(公告)日: | 2021-02-09 |
| 发明(设计)人: | 陈晓东;陈泽仁;黄国和 | 申请(专利权)人: | 江西鑫铂瑞科技有限公司 |
| 主分类号: | B21D33/00 | 分类号: | B21D33/00 |
| 代理公司: | 温州名创知识产权代理有限公司 33258 | 代理人: | 程嘉炜 |
| 地址: | 335000 江西省鹰*** | 国省代码: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 铜箔 整形 压平 装置 | ||
本实用新型公开了一种铜箔整形压平装置,包括工作平台,工作平台的内部安装有输送装置,工作平台的两侧上端固定焊接有支撑柱,支撑柱的上端固定焊接有顶座,顶座的中部使用螺钉扭紧安装固定有液压缸,液压缸的伸缩杆下端固定连接有支撑板,支撑板的两侧内部滑动套接有滑动轴,滑动轴的中部固定焊接有滑块,滑动轴的外侧滑动套接有弹簧,滑动轴的下端固定焊接有固定板,该铜箔整形压平装置,通过液压缸带动支撑板向下移动,带动滚筒压紧铜箔,可以方便对铜箔整平,弹簧的设计使得滚筒对铜箔产生缓冲作用,方便将不同厚度的铜箔进行整平;通过扭紧螺栓,方便拆装压块,压块的设计可以预先对铜箔进行压平整平,防止铜箔端面弯曲影响滚筒滚动整平。
技术领域
本实用新型涉及整形装置领域,更具体地说,涉及一种铜箔整形压平装置。
背景技术
铜箔是一种阴质性电解材料,沉淀于电路板基底层上的一层薄的、连续的金属箔,它作为PCB的导电体。它容易粘合于绝缘层,接受印刷保护层,腐蚀后形成电路图样。
现有铜箔整形压平装置,有部分整形压平装置采用滚筒滚动铜箔对其进行整平的结构,但是这样的结构只能对特定厚度的铜箔进行整平,生产方式较为单一,不适应现代化加工生产,同时,部分弯曲铜箔端面采用滚筒滚动整形后,容易使得铜箔端面反卷压平,影响铜箔整平工艺。因此,需要对现有技术进行改进。
实用新型内容
针对现有技术中存在的问题,本实用新型的目的在于提供一种铜箔整形压平装置,它通过液压缸带动支撑板向下移动,带动滚筒压紧铜箔,可以方便对铜箔整平,弹簧的设计使得滚筒对铜箔产生缓冲作用,方便将不同厚度的铜箔进行整平;通过扭紧螺栓,方便拆装压块,压块的设计可以预先对铜箔进行压平整平,防止铜箔端面弯曲影响滚筒滚动整平。
为解决上述问题,本实用新型采用如下的技术方案。
一种铜箔整形压平装置,包括工作平台,所述工作平台的内部安装有输送装置,所述工作平台的两侧上端固定焊接有支撑柱,所述支撑柱的上端固定焊接有顶座,所述顶座的中部使用螺钉扭紧安装固定有液压缸,所述液压缸的伸缩杆下端固定连接有支撑板,所述支撑板的两侧内部滑动套接有滑动轴,所述滑动轴的中部固定焊接有滑块,所述滑动轴的外侧滑动套接有弹簧,所述滑动轴的下端固定焊接有固定板,所述固定板的内部滑动套接有滚筒,所述固定板的一端固定焊接有支撑架,所述支撑架的内部通过螺纹连接有螺栓,所述螺栓的另一端通过螺纹连接有压块,该铜箔整形压平装置,通过液压缸带动支撑板向下移动,带动滚筒压紧铜箔,可以方便对铜箔整平,弹簧的设计使得滚筒对铜箔产生缓冲作用,方便将不同厚度的铜箔进行整平;通过扭紧螺栓,方便拆装压块,压块的设计可以预先对铜箔进行压平整平,防止铜箔端面弯曲影响滚筒滚动整平。
进一步的,所述支撑板的两侧内部滑动套接滑块,所述支撑板的两侧内部滑动套接弹簧,通过液压缸带动支撑板向下移动,带动滚筒压紧铜箔,可以方便对铜箔整平。
进一步的,所述支撑板的两侧滑动套接有支撑柱,所述滚筒采用电机带动其转动,弹簧的设计使得滚筒对铜箔产生缓冲作用,方便将不同厚度的铜箔进行整平。
进一步的,所述螺栓的螺帽紧贴支撑架,通过扭紧螺栓,方便拆装压块。
进一步的,所述压块的下端面为光滑平面结构,压块的设计可以预先对铜箔进行压平整平,防止铜箔端面弯曲影响滚筒滚动整平。
相比于现有技术,本实用新型的优点在于:
(1)本方案通过液压缸带动支撑板向下移动,带动滚筒压紧铜箔,可以方便对铜箔整平,弹簧的设计使得滚筒对铜箔产生缓冲作用,方便将不同厚度的铜箔进行整平;通过扭紧螺栓,方便拆装压块,压块的设计可以预先对铜箔进行压平整平,防止铜箔端面弯曲影响滚筒滚动整平。
(2)支撑板的两侧内部滑动套接滑块,支撑板的两侧内部滑动套接弹簧,通过液压缸带动支撑板向下移动,带动滚筒压紧铜箔,可以方便对铜箔整平。
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