[实用新型]一种陶瓷分散研磨器有效
| 申请号: | 202020823794.2 | 申请日: | 2020-05-15 |
| 公开(公告)号: | CN214051858U | 公开(公告)日: | 2021-08-27 |
| 发明(设计)人: | 何玉宝;张思友;张耀城;何伟钟;欧建毅;罗小华;张国锋 | 申请(专利权)人: | 东莞市华汇精密机械有限公司 |
| 主分类号: | B02C7/04 | 分类号: | B02C7/04;B02C7/12;B02C7/11 |
| 代理公司: | 广州专才专利代理事务所(普通合伙) 44679 | 代理人: | 林玲 |
| 地址: | 523000 *** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 陶瓷 分散 研磨 | ||
本实用新型公开了一种陶瓷分散研磨器,属于研磨器技术领域。包括有:传动轴、机隔套、若干个分散组件;每分散组件包括有第一研磨盘、第二研磨盘;第一研磨盘与第二研磨盘均开设有若干个腰型孔,腰型孔分别贯穿第一研磨盘、第二研磨盘;第一研磨盘的弧形面、第二研磨的弧形面分别开设有第一缺口、第二缺口,第一缺口呈螺旋形延伸至第一研磨盘的内部形成第一弧形通道,相邻的两个第一弧形通道相互连通;第二缺口呈螺旋形延伸至第二研磨盘的内部形成第二弧形通道,相邻的两个第二弧形通道相互连通;第一研磨盘、第二研磨盘背向的两端面均设置有凸台结构;本实用新型可增强研磨效果、提高研磨效率、增强级间流动、改善流量不平衡问题。
技术领域
本实用新型涉及研磨器技术领域,尤其涉及一种陶瓷分散研磨器。
背景技术
研磨设备中通常通过分散盘或分散轮带动研磨球高速运动,研磨球之间相互挤压碰撞使研磨物料破碎,实现对颗粒研磨,并通过分离器将已经研磨好的物料与未研磨完成的物料和研磨球分离,使研磨好的物料输出。
现有的研磨分散研磨装置在工作时,在分散器高速转动的作用下研磨球在筒体内壁运动,无法形成多个研磨环流,搅拌效率不高,颗粒分散流量不平衡,且现有的分散研磨装置研磨效果不充分,研磨效率较低。
实用新型内容
为了克服现有技术的缺陷,本实用新型所要解决的技术问题在于提出一种陶瓷分散研磨器,本实用新型可增强研磨效果、提高研磨效率、增强级间流动、改善流量不平衡问题。
为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:
本实用新型提供了一种陶瓷分散研磨器,包括有:传动轴、套设于所述传动轴上的机隔套、等距离设置在所述机隔套上的若干个分散组件;
每所述分散组件包括有第一研磨盘、第二研磨盘;所述第一研磨盘、所述第二研磨盘均套设于所述机隔套上;所述第一研磨盘与第二研磨盘相互背向的两端面均开设有若干个腰型孔,所述腰型孔分别贯穿所述第一研磨盘、所述第二研磨盘;所述第一研磨盘外沿的弧形面、所述第二研磨盘外沿的弧形面分别开设有若干个第一缺口、若干个第二缺口,所述第一缺口、所述第二缺口分别与对应相靠近的所述腰型孔连通;所述第一缺口呈螺旋形延伸至所述第一研磨盘的内部形成第一弧形通道,相邻的两个所述第一弧形通道靠近所述机隔套的一端相互连通;所述第二缺口呈螺旋形延伸至所述第二研磨盘的内部形成第二弧形通道,相邻的两个所述第二弧形通道靠近所述机隔套的一端相互连通;所述第一研磨盘、所述第二研磨盘背向的两端面均设置有若干个用于增强研磨效果的凸台结构;所述凸台结构位于所述腰型孔外侧;所述第一研磨盘与所述第二研磨盘可拆卸固定连接。
进一步地,所述第一弧形通道、所述第二弧形通道分别设置于所述第一研磨盘、所述第二研磨盘相对的两端面上,每个所述第一缺口与每个所述第二缺口对应设置相连通,并且所述第一弧形通道与相接近的所述第二弧形通道连通形成通槽。
进一步地,多个所述凸台结构倾斜设置并环形阵列分布于其所在的端面外沿上。
进一步地,多个所述腰型孔均倾斜设置并环形阵列分布于其所在的端面上。
进一步地,所述腰型孔的数量大于所述通槽的数量。
进一步地,多个所述通槽等距设置,所述通槽贯穿所述第一研磨盘的内外两弧面、所述第二研磨盘的内外两弧面。
进一步地,所述第一研磨盘与所述第二研磨盘背向的两端面设置有方便安装的环形凹槽,所述环形凹槽位于所在端面的中心处,所述环形凹槽的底面开设有若干个安装孔。
相比现有技术,本实用新型的有益效果在于:
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