[实用新型]一种利用气体特定气流方式实现的离子室有效
| 申请号: | 202020763497.3 | 申请日: | 2020-05-09 |
| 公开(公告)号: | CN212321793U | 公开(公告)日: | 2021-01-08 |
| 发明(设计)人: | 余正雄;陆新原;康璟哲;陶炜 | 申请(专利权)人: | 北京华科兴盛电力工程技术有限公司 |
| 主分类号: | G01R31/34 | 分类号: | G01R31/34;G01K11/30 |
| 代理公司: | 北京市鼎立东审知识产权代理有限公司 11751 | 代理人: | 朱慧娟;刘瑛 |
| 地址: | 102201 北京市昌平区*** | 国省代码: | 北京;11 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 利用 气体 特定 气流 方式 实现 离子 | ||
1.一种利用气体特定气流方式实现的离子室,其特征在于,包括进气管、出气管、离子室本体、放电针极、收集极、隔离套、收集筒和射源环;
所述离子室本体具有空腔,所述隔离套置于所述离子室本体的空腔内,将所述空腔隔成环形腔;
所述收集筒套设在所述隔离套内,且所述收集筒的底部与所述隔离套的底部连通;
所述进气管和所述出气管均穿过所述离子室本体;
所述进气管与所述环形腔连通,所述出气管与所述隔离套的空腔连通;
所述放电针极和所述收集极均安装在所述离子室本体的顶部;
所述放电针极穿过所述离子室本体的顶部,并延伸至所述收集筒内;
所述收集极穿过所述离子室本体的顶部,抵接所述收集筒的顶部翻边;
所述射源环围绕所述离子室本体的腔体内壁设置;
其中,所述射源环中的放射源为镅(Am-241)。
2.根据权利要求1所述的离子室,其特征在于,所述射源环为薄条层状结构,包括依次叠压的基板层、中间层和保护层;
所述基板层包括坡莫合金,所述中间层包括镅(Am-241),所述保护层为纯金。
3.根据权利要求2所述的离子室,其特征在于,所述射源环保护层的厚度小于或等于2μm。
4.根据权利要求2所述的离子室,其特征在于,所述中间层为粉末状,且所述中间层涂覆在所述基板层上。
5.根据权利要求1至4任一项所述的离子室,其特征在于,所述离子室本体包括顶盖、底座和底盖;
所述底座为具有所述空腔的柱形结构;
所述顶盖作为所述离子室本体的顶部覆盖并密封所述底座的顶部开口,所述底盖作为所述离子室本体的底部覆盖并密封所述底座的底部开口;
所述进气管和所述出气管同侧设置在所述底座的底部;
其中,所述进气管穿过所述底盖连通所述离子室本体的环形腔;
所述出气管穿过所述底盖与所述隔离套的空腔连通。
6.根据权利要求5所述的离子室,其特征在于,所述底盖的主体呈工字型结构;且所述隔离套固定安装在所述底盖的上层面板上;
所述底盖的上层面板覆盖所述隔离套的底部开口,所述底盖的下层面板覆盖并密封所述底座的底部开口;
其中,所述隔离套、所述离子室本体和所述底盖同轴设置。
7.根据权利要求1所述的离子室,其特征在于,还包括屏蔽盖;
所述屏蔽盖扣合在所述离子室本体的顶部,包围所述收集极和所述放电针极。
8.根据权利要求1所述的离子室,其特征在于,所述收集极包括收集针和弹簧;
所述收集针穿设在所述离子室本体的顶部,且所述收集针延伸至所述隔离套与所述离子室本体的顶部之间的空间内;
所述弹簧套设在所述收集针的延伸端上,并与所述收集筒的顶部翻边相抵接。
9.根据权利要求8所述的离子室,其特征在于,所述收集筒的顶部套设有绝缘头;
所述绝缘头朝向所述收集极的端面开设有缺口;
所述收集极穿过所述缺口抵接所述收集筒的顶部翻边。
10.根据权利要求1所述的离子室,其特征在于,还包括微电流放电器;
所述微电流放电器安装在所述离子室的顶部,与所述收集极电连接。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京华科兴盛电力工程技术有限公司,未经北京华科兴盛电力工程技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202020763497.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种纺纱机纱筒架升降及打开装置
- 下一篇:一种吊装无影拼接的线型灯





