[实用新型]一种真空吸盘及硅片运送装置

权利要求书

1.一种真空吸盘，其特征在于，所述真空吸盘包括一空心主体；

所述空心主体至少包括用于吸附硅片的第一平面，所述第一平面为平整平面，且所述第一平面开设有若干真空孔；

所述真空吸盘还包括一开口，所述开口设于所述第一平面以外的空心主体上。

2.根据权利要求1所述的真空吸盘，其特征在于，所述若干真空孔包括第一真空孔组合、第二真空孔组合及第三真空孔组合，所述第一真空孔组合沿第一直线分布，所述第二真空孔组合沿第二直线分布，所述第三真空孔组合沿第三直线分布，所述第一直线及第二直线沿真空吸盘运行方向设置，所述第三直线沿所述真空吸盘运行方向的垂直方向设置，且所述第一直线与第二直线平行设置。

3.根据权利要求2所述的真空吸盘，其特征在于，所述若干真空孔还包括第四真空孔组合，所述第四真空孔组合沿第四直线分布，所述第四直线沿所述真空吸盘运行方向的垂直方向设置，所述第一真空孔组合、第三真空孔组合、第二真空孔组合及第四真空孔组合首尾连接构成矩形结构。

4.根据权利要求2或3所述的真空吸盘，其特征在于，所述第一真空孔组合、第二真空孔组合及第三真空孔组合分别包括4～6个真空孔，且相邻真空孔之间的孔间距为10～13mm。

5.根据权利要求4所述的真空吸盘，其特征在于，所述第一平面为所述空心主体中单侧面积最大的面。

6.根据权利要求1～3、5任意一项所述的真空吸盘，其特征在于，所述空心主体还包括第二平面，所述第二平面与所述第一平面平行设置，且所述第一平面与第二平面之间的距离为6～10mm。

7.根据权利要求6所述的真空吸盘，其特征在于，所述空心主体采用耐磨性材料制成。

8.根据权利要求6所述的真空吸盘，其特征在于，所述真空吸盘还包括贴覆于所述空心主体表面的耐高温层。

9.一种硅片运送装置，其特征在于，其包括如权利要求1～8任意一项所述的真空吸盘、抽真空设备及滑轨，所述抽真空设备与所述真空吸盘连接，所述真空吸盘设于所述滑轨上，当运送硅片时，硅片贴设在所述第一平面上，且所述硅片覆盖所有真空孔，所述真空吸盘沿所述滑轨滑动。