[实用新型]旋转靶材及磁控溅射装置有效
| 申请号： | 202020701972.4 | 申请日： | 2020-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN212894948U | 公开（公告）日： | 2021-04-06 |
| 发明（设计）人： | 任丹丹;朱成顺;蒋雷 | 申请（专利权）人： | 成都中电熊猫显示科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 张娜;臧建明 |
| 地址： | 610200 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 旋转 磁控溅射 装置 | ||
1.一种旋转靶材，其特征在于，包括背管、设置在所述背管内的磁芯以及围设在所述背管外侧的靶材，所述靶材包括回镀部以及靶材主体部，所述回镀部对应于所述靶材使用时将会产生杂质聚集的区域，所述回镀部位于所述靶材主体部的长度方向两端部；所述回镀部的侧方外轮廓的尺寸小于所述靶材主体部的侧方外轮廓的尺寸。
2.根据权利要求1所述的旋转靶材，其特征在于，所述回镀部包括朝向所述靶材主体部的第一端以及背离所述靶材主体部的第二端，所述回镀部的侧方外轮廓的尺寸由所述回镀部的第一端到所述回镀部的第二端逐步减小。
3.根据权利要求2所述的旋转靶材，其特征在于，所述回镀部的外侧面为相对于所述背管的轴线倾斜的斜面。
4.根据权利要求3所述的旋转靶材，其特征在于，所述回镀部的外侧面相对于所述背管的轴线的夹角范围为：15°～32°。
5.根据权利要求1所述的旋转靶材，其特征在于，所述回镀部的厚度由所述回镀部的第一端朝向所述回镀部的第二端逐步减小。
6.根据权利要求1-5任一项所述的旋转靶材，其特征在于，所述主体部包括多个靶胚，多个所述靶胚围设在所述背管外侧，且沿所述背管的轴向间隔布置。
7.根据权利要求6所述的旋转靶材，其特征在于，在所述背管的轴向上相邻的两个所述靶胚彼此间距为0.20～0.40mm。
8.根据权利要求1-5任一项所述的旋转靶材，其特征在于，所述回镀区外表面的表面粗糙度Ra为1.0-2.0um。
9.根据权利要求1-5任一项所述的旋转靶材，其特征在于，所述回镀部的第二端端面垂直于所述背管的轴线。
10.一种磁控溅射装置，其特征在于，包括权利要求1-9中任一项所述的旋转靶材。
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